[实用新型]用于光刻区地面的吸污垫

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种吸污垫，尤其涉及一种用于半导体制造中光刻区地面的吸污垫。

背景技术

半导体制造过程中，经常需要在光刻区更换光刻胶，更换光刻胶时，光刻胶难免滴落在地面上，影响FAB工厂地面地板的清洁度，污染环境，也会影响现场光刻区PGMEA（丙二醇甲基醚乙酸酯）的浓度，因此，需要操作人员定期清理，这就增加了不必要的人力和物力。

本领域技术人员需要提供一种技术方案来解决光刻胶等化学品滴落到地面而造成的诸多问题。

实用新型内容

本实用新型为了解决这些现有技术问题，提出了一种用于光刻区地面的吸污垫。

本实用新型的用于光刻区地面的吸污垫包括一层防静电膜及其上的一层防化学吸污棉，该防静电膜和防化学吸污棉相互贴合固定。

进一步地，该防化学吸污棉由四片两两相接的吸污棉组合而成。

进一步地，该相邻两片吸污棉之间间隔0-30mm。

进一步地，该相邻两片吸污棉之间间隔1-10mm。

进一步地，该防静电膜为方形，该防化学吸污棉为由四片方形吸污棉组成的方形，且防化学吸污棉边缘与防静电膜边缘的距离为0-30mm。

进一步地，该防化学吸污棉与防静电膜的边缘相互重叠。

进一步地，该防静电膜与防化学吸污棉相互粘合。

进一步地，该防静电膜与防化学吸污棉通过塑料泡沫胶相互粘合。

进一步地，该防化学吸污棉的中间部分通过塑料泡沫胶与防静电膜相互粘合，防化学吸污棉的边缘通过夹子与防静电膜相互固定。

在更换光刻胶时，将本实用新型的吸污垫铺垫在地面地板上，可以快速吸收滴落的光刻胶等化学品，提高了光刻区地面的清洁度，降低光刻胶更换后的刺激性气味，大大减少光刻胶滴落到地面带来的损伤，提高工作效率，降低对环境的污染。

本实用新型的吸污垫还可折叠，减小存放空间，存放时防静电膜包裹里面的防化学吸污棉，进一步降低了吸收了光刻胶等化学品的防化学吸污棉对周围环境的污染。

附图说明

为能更清楚理解本实用新型的目的、特点和优点，以下将结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细描述，其中：

图1是本实用新型用于光刻区地面的吸污垫的结构示意图。

具体实施方式

请参阅图1，本实施例的吸污垫包括长方形防静电膜1及其上的一层防化学吸污棉，防化学吸污棉由四片两两相接的长方形吸污棉2组合而成，图1仅示出右下区域的吸污棉。

防静电膜上具有两条中线11，在图1中以虚线表示，在与中线11两边相隔20mm处设有塑料泡沫胶3，在图1中以粗实线表示，可见，塑料泡沫胶3是设于整块防静电膜的中间部分，即相当于防化学吸污棉的中间部分。四片吸污棉两两之间间隔5mm，边缘与防静电膜的边缘相互重叠，以防止光刻胶等化学品直接滴落到防静电膜之上，由此，四片吸污棉均被两条塑料泡沫胶3粘合固定在防静电膜1之上，如图1所示，右下区域的吸污棉2的上缘和左缘，通过两条相互垂直而设的塑料泡沫胶（被遮挡未图示）粘合固定在防静电膜1的右下区域。同时，右下区域吸污棉2的右缘和下缘分别通过两个和一个夹子与防静电膜1相固定。这样，吸污棉2就被牢牢地贴合固定在防静电膜1之上。

同理，右上、左上、左下区域的三片吸污棉均可采用与右下区域吸污棉相同的方法固定在防静电膜1上。

本实施例中，防静电膜1为800mm×1000mm，吸污棉2为400×500mm，四片吸污棉的设置一方面便于折叠存放，另一方面可以在四片吸污棉之中交替轮流使用，如在一片吸污棉区域吸收光刻胶等化学品较多时，旋转吸污垫以便将另外三片吸污棉置于操作区域下方以吸收滴落的化学品。两片吸污棉之间间隔5mm，便于折叠存放的同时，该间隔可以有效防止光刻胶等化学品直接滴落在防静电膜上对其造成污染。

本实施例通过中间粘合边缘夹合的方式将防化学吸污棉贴合地固定在防静电膜之上，由于粘合区域较少，便于后期更换防化学吸污棉，防静电膜则可以使用多次，节约了成本。在实际应用中，可以根据吸污棉和防静电膜的不同形状大小，来调整固定方式。

本实施例的防静电膜可采用现有材料，防化学吸污棉可以是能吸收碱性、酸性或其他化学品的材质，本实施例采用Newpig公司的防化学吸污垫，粘合方法除了塑料泡沫胶，还可以采用其他双面胶、粘合剂等。