[实用新型]硅片清洗装置

权利要求书

1.一种硅片清洗装置，其特征在于：包括清洗槽（1）、转盘（2）、支架（3）、电机（5）、给水管（8）和泵（9），所述清洗槽（1）固定安装在所述支架（3）上，所述电机（5）固定安装在所述清洗槽（1）的底部，所述电机（5）的输出轴延伸至所述清洗槽（1）内，所述转盘（2）固定安装在所述电机（5）的输出轴上，所述转盘（2）的表面开设有滤水孔，所述泵（9）固定安装在所述支架（3）的侧壁，所述清洗槽（1）的底部开设有出水口，所述出水口上设有出水管（7），所述出水管（7）的另一端与所述给水管（8）合并成一路后连接至所述泵（9）的输入端，所述泵（9）的输出端连接有进水管（10），所述进水管（10）的输出端延伸至所述清洗槽（1）内，所述进水管（10）的端部设有喷嘴（11），所述给水管（8）和出水管（7）上均设有阀（6）。

2.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述清洗槽（1）的底部开设有排污口（4），所述排污口（4）上设有球阀。

3.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述清洗槽（1）的顶部设有盖板（12），所述盖板（12）上开设有观察孔。

4.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述阀（6）为电磁阀。