[实用新型]硅片清洗装置有效
申请号: | 201320312545.7 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN203265121U | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 王贝贝 | 申请(专利权)人: | 浙江金乐太阳能科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 | 代理人: | 胡小永 |
地址: | 315201 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅片 清洗 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种清洗装置,特别涉及一种硅片清洗装置。
背景技术
太阳能光伏行业晶体硅电池的制作过程中,会产生一定量的碎硅片,这部分硅片含浆料等杂质,将含有浆料等杂质的碎硅片经清洗后可以再利用。现用于碎硅片清洗的设备是利用压缩空气向清洗槽内充气,由于空压机容易漏油,易导致清洗完后的碎硅片收到污染;且传统的清洗装置纯水使用量大。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是提供一种清洗效果好且纯水使用量小的硅片清洗装置。
(二)技术方案
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种硅片清洗装置,包括清洗槽1、转盘2、支架3、电机5、给水管8和泵9,所述清洗槽1固定安装在所述支架3上,所述电机5固定安装在所述清洗槽1的底部,所述电机5的输出轴延伸至所述清洗槽1内,所述转盘2固定安装在所述电机5的输出轴上,所述转盘2的表面开设有滤水孔,所述泵9固定安装在所述支架3的侧壁,所述清洗槽1的底部开设有出水口,所述出水口上设有出水管7,所述出水管7的另一端与所述给水管8合并成一路后连接至所述泵9的输入端,所述泵9的输出端连接有进水管10,所述进水管10的输出端延伸至所述清洗槽1内,所述进水管10的端部设有喷嘴11,所述给水管8和出水管7上均设有阀6。
进一步的,所述清洗槽1的底部开设有排污口4,所述排污口4上设有球阀。
进一步的,所述清洗槽1的顶部设有盖板12,所述盖板12上开设有观察孔。
进一步的,所述阀6为电磁阀。
(三)有益效果
本实用新型硅片清洗装置,在清洗硅片时,将待清洗的硅片放置在转盘上,开启电机、泵及给水管上的阀,纯水经喷嘴实现对硅片的清洗,待清洗槽内的水达到一定水位后,关闭给水管上的阀,打开出水管上的阀,实现水的循环利用,提高了水的利用率,减少了水浪费;当清洗至一定程度后,打开排污口,排干清洗槽内的污水,再进行第二次清洗,提高清洗效果;在顶部设有盖板,防止水飞溅,且能降低水的噪声;在盖板上设有观察孔,能实时了解清洗情况;本实用新型硅片清洗装置,清洗效果好,效率高且减少了水浪费,降低了生产成本。
附图说明
图1为本实用新型硅片清洗装置的结构示意图。
具体实施方式
参阅图1,本实用新型提供一种硅片清洗装置,包括清洗槽1、转盘2、支架3、电机5、给水管8和泵9,清洗槽1固定安装在支架3上,电机5固定安装在清洗槽1的底部,优选的,安装在清洗槽1的底部中央,电机5的输出轴延伸至清洗槽1内,转盘2固定安装在电机5的输出轴上,在转盘2的表面开设有滤水孔,泵9固定安装在支架3的侧壁,清洗槽1的底部开设有出水口,该出水口上设有出水管7,出水管7的另一端与给水管8合并成一路后连接至泵9的输入端,泵9的输出端连接有进水管10,进水管10的输出端延伸至清洗槽1内,在进水管10的端部设有喷嘴11,在给水管8和出水管7上均设有阀6,本实施例中,该阀6为电磁阀;在清洗槽1的底部开设有排污口4,在排污口4上设有球阀;为了防止水飞溅且降低噪声,在清洗槽1的顶部设有盖板12,在盖板12上开设有观察孔。
本实用新型硅片清洗装置,在清洗硅片时,将待清洗的硅片放置在转盘上,开启电机、泵及给水管上的阀,纯水经喷嘴实现对硅片的清洗,待清洗槽内的水达到一定水位后,关闭给水管上的阀,打开出水管上的阀,实现水的循环利用,提高了水的利用率,减少了水浪费;当清洗至一定程度后,打开排污口,排干清洗槽内的污水,再进行第二次清洗,提高清洗效果;在顶部设有盖板,防止水飞溅,且能降低水的噪声;在盖板上设有观察孔,能实时了解清洗情况;本实用新型硅片清洗装置,清洗效果好,效率高且减少了水浪费,降低了生产成本。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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