[实用新型]合金蒸镀装置

说明书

技术领域

本实用新型关于一种蒸镀装置，特别是指一种达到精准控制合金蒸镀比例的合金蒸镀装置。

背景技术

蒸镀(evaporation)法属于物理气相沉积(physical vapor deposition)的一种镀膜应用技术，其将一用于沉积薄膜的材料放置于一坩锅(crucible)内后，再施加热能，使该材料分解为气态的原子、原子集合体或分子，以凝聚于待镀膜基板表面而形成薄膜。蒸镀法可广泛应用于制造太阳能电池、半导体芯片、平面显示器(LCD、OLED)、光学镜片、有机、机械功能镀膜、装饰镀膜及高温超导体等先进镀膜。

现今的蒸镀装置中，大多利用电子枪发射电子束，并直接照射于用于沉积薄膜的材料上使其加热气化，而达到对待镀膜基板蒸镀的目的。因此，电子束直接照射用于沉积薄膜的材料的部份温度必然最高，将率先气化蒸镀，而其周围部分随后才会气化蒸镀。此方式在单一金属蒸镀来说是没有问题的。然而，欲进行两种金属(合金)蒸镀时，由于两种金属的沸点不尽相同，直接将电子束照射于两种金属上时，有可能发生其中一种金属已经气化蒸镀而另外一种金属却尚未气化的状态，导致蒸镀失败。若调整电子束的功率，使照射于两种金属上的电子束功率不相同，不但需要两组电子束发射器而增加成本，更会因为直接照射区将率先气化蒸镀而其周围部分随后才会气化蒸镀的原因，使得合金蒸镀比例不准确，因此难以堪称实用。

因此，如何在蒸镀合金时能够精准控制合金蒸镀的比例，便是本实用新型的创作动机，有鉴于此，本实用新型的创作人依据多年研究的经验累积，并搭配自身的创意及不断的尝试下，进而研发出一种精准控制合金蒸镀比例的合金蒸镀装置。

实用新型内容

本实用新型的主要目的，提出一种能达到精准控制合金蒸镀比例的合金蒸镀装置。

为了达成本实用新型的上述目的，本实用新型的设计人提出一种合金蒸镀装置，包括：

一中空本体；

一储料容器，设于该中空本体内部，且其上设置有一第一容置槽、一第二容置槽以及一加热区域；

一第一金属镀膜材，设于该第一容置槽内；

一第二金属镀膜材，设于该第二容置槽内，其中，该储料容器的熔点较该第一金属镀膜材与该第二金属镀膜材的沸点高；

一被蒸镀物，设于该中空本体内，且位于该储料容器上方；以及

一电子加热单元，设于该中空本体内。

如上所述的合金蒸镀装置，还包括：

一旋转基座，设于该中空本体内，且该被蒸镀物固定于该旋转基座上。

如上所述的合金蒸镀装置，其中，该电子加热单元为一可调整角度的电子枪。

如上所述的合金蒸镀装置，其中，该可调整角度的电子枪根据该第一金属镀膜材与该第二金属镀膜材的沸点来调整角度。

如上所述的合金蒸镀装置，其中，该储料容器上还设置有一第三容置槽，用以容置一第三金属镀膜材。

如上所述的合金蒸镀装置，其中，该电子加热单元为一可调整角度的电子枪，且该可调整角度的电子枪根据该第一金属镀膜材、该第二金属镀膜材与该第三金属镀膜材的沸点来调整角度。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型中利用电子枪加热储料容器后，再通过储料容器将金属镀膜材加热气化来进行合金蒸镀，如此一来，金属镀膜材的受热区域为一个面而非一个点，达到平均加热的效果；同时实现精准控制合金蒸镀比例的效果。

附图说明

图1为本实用新型的合金蒸镀装置的侧面剖视图；

图2为本实用新型的储料容器的俯视图；

图3为本实用新型的电子加热单元的动作示意图。

图中主要符号说明：

10：合金蒸镀装置         11：中空本体

12：储料容器             12：第一容置槽

122：第二容置槽          123：加热区

13：第一金属镀膜材       14：第二金属镀膜材

15：电子加热单元         16：被蒸镀物

17：旋转基座

具体实施方式

为了能够更清楚地描述本实用新型所提出的一种合金蒸镀装置，以下将配合图式，详尽说明本实用新型的较佳实施例。