[实用新型]一种含银离子的正畸托槽有效
| 申请号： | 201320349646.1 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN203280514U | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 叶年嵩;赖文莉 | 申请（专利权）人： | 叶年嵩 |
| 主分类号： | A61C7/16 | 分类号： | A61C7/16 |
| 代理公司： | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人： | 李久林 |
| 地址： | 201103 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 银离子 正畸托槽 | ||
【权利要求书】：
1.一种含银离子的正畸托槽，其特征在于，包括金属材质的托槽底板（1）和托槽体（2），托槽底板（1）的反面为粘接面，托槽底板（1）的正面固定连接托槽体（2），托槽体（2）上形成有多个托槽翼（3）和托槽槽沟（4），多个托槽翼（3）分布于托槽槽沟（4）的两侧，所述托槽底板（1）正面和侧面的表面层是深度为0.01～0.1mm银离子注入层，所述托槽体（2）及其托槽翼（3）、托槽槽沟（4）的表面层是深度为0.01～0.1mm银离子注入层。
2.根据权利要求1所述的一种含银离子的正畸托槽，其特征在于，其中一个托槽翼（3）上设有托槽牵引钩（5），托槽牵引钩（5）的表面层是深度为0.01～0.1mm银离子注入层。
3.根据权利要求1或2所述的一种含银离子的正畸托槽，其特征在于，所述正畸托槽为不锈钢托槽或纯钛托槽。
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