[实用新型]一种含银离子的正畸托槽有效

专利信息
申请号: 201320349646.1 申请日: 2013-06-18
公开(公告)号: CN203280514U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 叶年嵩;赖文莉 申请(专利权)人: 叶年嵩
主分类号: A61C7/16 分类号: A61C7/16
代理公司: 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 代理人: 李久林
地址: 201103 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 银离子 正畸托槽
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种含银离子的正畸托槽。

背景技术

在对口腔内牙齿的疾病进行治疗或修复时,常会使用不锈钢金属制成的各种功能的材料,如正畸治疗中使用的托槽、修复治疗中的不锈钢结构件及其他。由于这些结构件需要在患者的牙齿上较长时间的存在。正是这一原因使得患者的口腔内环境发生变化,使得这些构件相邻区域的牙齿组织在特异性细菌作用下,发生牙表面脱矿并龋蚀。有研究表明,经正畸治疗后约有59%-70%的患者发生了牙釉质表面脱矿。这是在矫正过程中,牙齿表面粘贴的附件导致这个区域的微环境变化,致龋菌聚集,从而产生齿源性的附加损害——龋齿。

发明内容

为了解决上述的技术问题,本实用新型的目的是提供一种含银离子的正畸托槽,在托槽的金属材料表面通过离子注入技术形成银离子注入层,据我们研究表明这样可以杀灭附着在金属构件上和其周边的一些致龋细菌:如变形链球菌、放线菌、乳杆菌、酵母菌,从而使其产生明显的抑菌效果,避免或降低患龋齿的风险。

为了达到上述的目的,本实用新型采用了以下的技术方案:

一种含银离子的正畸托槽,包括金属材质的托槽底板和托槽体,托槽底板的反面为粘接面,托槽底板的正面固定连接托槽体,托槽体上形成有多个托槽翼和托槽槽沟,多个托槽翼分布于托槽槽沟的两侧,所述托槽底板正面和侧面的表面层是深度为0.01~0.1mm银离子注入层,所述托槽体及其托槽翼、托槽槽沟的表面层是深度为0.01~0.1mm银离子注入层。

其中一个托槽翼上设有托槽牵引钩,托槽牵引钩的表面层也是深度为0.01~0.1mm银离子注入层。所述正畸托槽为不锈钢托槽或纯钛托槽。

本实用新型由于采用了以上的技术方案,在托槽的金属材料表面通过离子注入等技术形成银离子注入层,这样可以杀灭附着其周边的一些致龋细菌:如变形链球菌、放线菌、乳杆菌、酵母菌,从而使其产生明显的抑菌效果,避免或降低患龋齿的风险。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做一个详细的说明。

实施例1:

如图1所示的一种含银离子的正畸托槽,包括不锈钢材质的托槽底板1和托槽体2,托槽底板1的反面为粘接面,托槽底板1的正面固定连接托槽体2,托槽体2上形成有多个托槽翼3和托槽槽沟4,多个托槽翼3分布于托槽槽沟4的两侧,其中一个托槽翼3上设有托槽牵引钩5,所述托槽底板1正面和侧面的表面层是深度为0.01~0.1mm银离子注入层,所述托槽体2及其托槽翼3、托槽槽沟4和托槽牵引钩5的表面层是深度为0.01~0.1mm银离子注入层。

需要强调的是:以上仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

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