[实用新型]一种过饱和掺杂高效异质结电池有效
申请号: | 201320364060.2 | 申请日: | 2013-06-21 |
公开(公告)号: | CN203325954U | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 赵会娟;张东升 | 申请(专利权)人: | 国电光伏有限公司 |
主分类号: | H01L31/077 | 分类号: | H01L31/077;H01L31/0352;H01L31/0224 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 214213 江苏省无锡市宜兴*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 过饱和 掺杂 高效 异质结 电池 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种太阳能电池的制作方法,尤其涉及一种过饱和掺杂高效异质结电池。
背景技术
石化能源对环境污染严重,而且还面临着资源越来越少的危险,太阳能作为新型绿色能源有望成为未来的主要能源之一。太阳能电池是利用太阳能的有效方法之一,发展方向是提高转化效率、降低生产成本。目前,利用非晶硅薄膜作为窗口层,单晶硅片作为衬底,形成的异质结太阳能电池既利用了低温的薄膜沉积工艺,又发挥了晶体硅高迁移率的优势,制备工艺简单,具有实现高效率、低成本的发展前景。
在现有的异质结太阳能电池中,由于位于硅带隙中的深能级是最有效的载流子复合中心,对光生载流子具有很大的复合效应,减小载流子的寿命,进而严重影响电池效率,所以,在制备中会极力消除和避免深能级杂质。但是,当深能级杂质的掺杂浓度足够高,高浓度深能级中心波函数相互交叠,载流子可以在深能级之间做共有化运动时,可以在禁带中形成杂质能带。这种中间带的形成能够有效抑制深能级杂质的非辐射复合,减小其对载流子寿命的危害。
实用新型内容
发明目的:本实用新型的发明目的是提供一种过饱和掺杂高效异质结电池,电池晶硅上表面为掺入过饱和硒元素形成的硅-硒掺杂层,不但能够有效抑制深能级杂质的非辐射复合,减小其对载流子寿命的危害,突破S-Q理论极限,而且背面形成BSF结构,增加长波吸收提高短路电流,从而提高电池的光电转换效率。
技术方案:本实用新型所述的一种过饱和掺杂高效异质结电池,包括晶硅、正电极、从上至下依次位于晶硅背面的非晶硅薄膜、导电薄膜和金属电极,所述晶硅上表面为掺入过饱和硒元素形成的硅-硒掺杂层,所述正电极位于硅-硒掺杂层上。
所述非晶硅薄膜包括从上至下的本征非晶硅薄膜和P+型非晶硅薄膜。
所述本征非晶硅薄膜和所述P+型非晶硅薄膜都为氢化纳米硅薄膜。
所述导电薄膜为透明导电膜。
有益效果:本实用新型与现有的异质结太阳能电池相比,其显著特点是电池晶硅上表面为掺入过饱和硒元素形成的硅-硒掺杂层,不但能够有效抑制深能级杂质的非辐射复合,减小其对载流子寿命的危害,突破S-Q理论极限,而且背面形成BSF结构,增加长波吸收提高短路电流,从而提高电池的光电转换效率。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图;
图2是图1中正电极结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型做进一步说明。
如图1及图2所示,本实用新型实施例提供的一种过饱和掺杂高效异质结电池,包括晶硅3、正电极1、从上至下依次位于晶硅3背面的本征非晶硅薄膜4、P+型非晶硅薄膜5、透明导电膜(TCO)6和金属电极7,晶硅3上表面为掺入过饱和硒元素形成的硅-硒掺杂层2,正电极1位于硅-硒掺杂层2上。
由于电池的晶硅3上表面为掺入过饱和硒元素形成的硅-硒掺杂层2,不但能够有效抑制深能级杂质的非辐射复合,减小其对载流子寿命的危害,突破S-Q理论极限,而且背面形成BSF结构,增加长波吸收提高短路电流,从而提高电池的光电转换效率。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的