[实用新型]一种镀减反射膜设备有效
申请号: | 201320372830.8 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN203295602U | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 马红娜;史金超;胡海波;马桂艳 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减反射膜 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池技术领域,更具体地说,涉及一种镀减反射膜设备。
背景技术
太阳能电池,也称光伏电池,是一种将太阳的光能直接转化为电能的半导体器件。由于它是绿色环保产品,不会引起环境污染,而且太阳能是可再生资源,所以在当今能源短缺的情形下,太阳能电池是一种有广阔发展前途的新型能源。在制备太阳能电池过程需要对硅片进行镀减反射膜,一般减反射膜多为氮化硅膜,氮化硅膜颜色为蓝色。镀减反射膜的作用就是减少光的反射,增加了对光的吸收强度,同时还能起到钝化效果。
现有的太阳能电池制备过程中,通常采用PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition,等离子增强化学气相沉积)镀减反射膜方法,该方法是一种通过增加等离子体能量来沉积薄膜的化学气相沉积方法,通常采用Roth&RAU的链式PECVD镀减反射膜设备。该镀减反射膜设备内部包括五个腔室,依次为进料腔室,预热腔室,工艺腔室,冷却腔室和出料腔室。发明人发现,在制备太阳能电池过程中,经常出现减反射膜不均匀以及减反射膜表面有色差,成品合格率低。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种镀减反射膜设备,采用本实用新型提供的镀减反射膜设备,提高了减反射膜的均匀度,减少了出现减反射膜色差的情况,提高了太阳能电池片成品合格率。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种镀减反射膜设备,包括进料腔室、预热腔室、工艺腔室、冷却腔室和出料腔室,所述进料腔室、所述预热腔室和所述工艺腔室的顶部均至少设置有一个气体吹扫装置,所述进料腔室、所述预热腔室和所述工艺腔室的底部均至少设置有一个碎屑排出口。
优选的,所述冷却腔室和所述出料腔室的顶部均至少设置有一个气体吹扫装置,且所述冷却腔室和所述出料腔室底部均至少设置有一个碎屑排出口。
优选的,所述进料腔室、所述预热腔室、所述工艺腔室、所述冷却腔室和所述出料腔室的顶部中央区域均设置有一个气体吹扫装置。
优选的,所述进料腔室、所述预热腔室、所述工艺腔室、所述冷却腔室和所述出料腔室的顶部中央区域和顶部各角位置均设置有一个气体吹扫装置。
优选的,所述进料腔室、所述预热腔室、所述工艺腔室、所述冷却腔室和所述出料腔室的底部各角位置均设置有一个碎屑排出口。
优选的,所述进料腔室、所述预热腔室、所述工艺腔室、所述冷却腔室和所述出料腔室的底部各边缘区域均至少设置有一个碎屑排出口。
优选的,所述气体吹扫装置为氮气吹扫装置。
与现有技术相比,本实用新型所提供的技术方案具有以下优点:
本实用新型所提供的镀减反射膜设备,在对一批硅片进行镀减反射膜之前,首先对镀减反射膜设备内的进料腔室、预热腔室和工艺腔室进行清理,避免了上一批硅片在镀减反射膜设备内部传送过程中由于震动使机械强度低的硅片碎裂,碎屑残留在腔室内壁以及轨道上的情况发生。保证了镀减反射膜内腔室的洁净,保证每一批硅片的镀膜面在镀减反射膜时的洁净,从而减少了出现色差片的情况,提高了减反射膜的合格率,进而提高了太阳能电池片的成品合格率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的一种镀减反射膜设备结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的另一种镀减反射膜设备结构示意图;
图3为本实用新型实施例提供的又一种镀减反射膜设备结构示意图;
图4为本实用新型实施例提供的又一种镀减反射膜设备结构示意图;
图5为本实用新型实施例提供的又一种镀减反射膜设备结构示意图。
具体实施方式
正如背景技术所述,在制备太阳能电池过程中,经常出现减反射膜不均匀以及减反射膜表面有色差,降低了太阳能电池成品合格率。发明人研究发现,造成这种缺陷的原因之一为硅片的镀膜面粘附有碎屑,影响镀减反射膜过程中减反射膜的均匀度,甚至出现色差片,进而影响了太阳能电池的成品合格率。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的