[实用新型]一种石斛栽培水份管理装置有效

专利信息
申请号: 201320386531.X 申请日: 2013-07-01
公开(公告)号: CN203340742U 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 刘晓津;罗焕明;邓瑞云;邱道寿;张蕾;蔡时可 申请(专利权)人: 广东省农业科学院作物研究所
主分类号: A01G31/02 分类号: A01G31/02
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 曹爱红
地址: 510640 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 石斛 栽培 管理 装置
【权利要求书】:

1.一种石斛栽培水份管理装置,包括蓄水槽,其特征在于,还包括沥水层,所述沥水层置于所述蓄水槽的上方,所述蓄水槽与所述沥水层之间有间隙。

2.根据权利要求1所述的水份管理装置,其特征在于,所述蓄水槽与所述沥水层之间设置垫片,所述垫片高度为2-4公分。

3.根据权利要求1所述的水份管理装置,其特征在于,所述沥水层的底部带网孔,所述沥水层的四周设有挡板。

4.根据权利要求1所述的水份管理装置,其特征在于,所述蓄水槽设有排水孔,所述蓄水槽为实底平盘或塑料膜。

5.根据权利要求1-4之一所述的水份管理装置,其特征在于,还包括支撑脚,所述蓄水槽置于所述支撑脚上。

6.根据权利要求5所述的水份管理装置,其特征在于,还包括升降杆,所述升降杆与所述沥水层连接。

7.根据权利要求1所述的水份管理装置,其特征在于,所述蓄水槽为地下层,所述地下层的底面与地面的垂直距离为10-20公分,所述蓄水槽内铺设塑料膜,所述塑料膜上铺设碎石层,所述碎石层上依次铺设沥水层和培养基质层。

8.根据权利要求1所述的水份管理装置,其特征在于,所述沥水层为底部有排水孔的盆,所述蓄水槽为盆托,所述蓄水槽内装有水,所述蓄水槽的水平面接触所述沥水层的底部或底部以上1-2公分。

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