[实用新型]一种石斛栽培水份管理装置

说明书

技术领域

本实用新型属于栽培技术领域，具体涉及一种石斛栽培水份管理装置。

背景技术

石斛为兰科多年生草本植物，具有滋阴清热、益胃生津的功效。现代药理表明石斛具有增强免疫力、抗衰老、护肝利胆、抗肿瘤等作用。石斛对生境要求较高，喜通风透气、半干半湿的生长环境。人工栽培中，为了兼顾产量和药用成分多糖含量，石斛适宜的生长温度为日温25-30℃，夜温15-20℃,最佳湿度为80%左右，通风透气。

目前石斛人工种植方式主要有两种：

一种是仿野生栽培，即在自然环境下直接把石斛绑在活树上种植，这种方式节约了建造设施方面的成本，且石斛品质接近野生石斛，但缺点是产量不高，容易受到自然灾害的影响。

一种是人工集约化栽培，即设施栽培，是国内主要的栽培方式。主要采用大棚设施种植。这种栽培方式也有两种模式，一种是直接在地上铺基质种植，这种模式的优点是简单，易操作，且节约了建造苗床的成本，但缺点是不利于石斛根部通风透气，容易造成烂根，产生土壤病虫害和杂草。另一种模式是在大棚内建造架空的苗床，苗床底部一般为网状结构。这种方法虽然能够保证铁皮石斛通风透气和隔绝土壤病虫害，但缺点是不利于基质保水，尤其是在广东等高温地区，一般需2-3天浇一次水来保证湿润的环境，且基质中的营养成分也容易在浇水时随着水流流失，因而增加了成本和管理难度。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种石斛栽培水份管理装置，同时提供该装置的应用方法。本实用新型的装置及其应用方法为石斛提供最适宜生长的水份环境，既能保证通风透气、半干半湿的环境，又能减少浇水次数和栽培难度。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现：

本实用新型的石斛栽培水份管理装置，包括蓄水槽，还包括沥水层，所述沥水层置于所述蓄水槽的上方，所述蓄水槽与所述沥水层之间有间隙。

可以通过以下几种优选方式实现：

第一种优选方式，所述蓄水槽与所述沥水层通过升降杆提升，而与所述蓄水槽产生间隙。

第二种优选方式，所述蓄水槽与所述沥水层之间设置垫片,所述垫片高度为2-4公分。

优选的，所述沥水层的底部带网孔，所述沥水层的四周设有挡板。

优选的，所述蓄水槽设有排水孔，所述蓄水槽为实底平盘或塑料膜。

上述方式的水份管理装置还包括支撑脚，所述蓄水槽置于所述支撑脚上。

上述方式的水份管理装置还包括升降杆，所述升降杆与所述沥水层通过铆钉或绳索固定相连接。

第三种优选方式，所述蓄水槽为地下层，所述地下层的底面与地面的垂直距离为10-20公分，所述蓄水槽内铺设塑料膜，所述塑料膜上铺设碎石层，所述碎石层上设置沥水层，所述沥水层上铺设培养基质层。

第四种优选方式，所述沥水层为底部有排水孔的盆，所述蓄水槽为盆托，所述蓄水槽内装有水，所述蓄水槽的水平面接触所述沥水层的底部或底部以上1-2公分。该盆为一般常用的花盆，盆底有一定高度。

上述水份管理装置的应用方法为将培养基质层置于所述沥水层上，先把所述基质层淋透，然后再向所述蓄水槽灌水直至所述蓄水槽的水平面接触所述沥水层的底部或底部以上1-2公分；待所述基质层变干后，再重新按上述方式浇水。

本实用新型的装置减少了浇水次数，一般装置浇水2天一次，本装置浇水一周一次；保证通风透气、半干半湿的环境；隔绝土壤病虫害；特别是提供了一种石斛苗床，为药用石斛的人工栽培制造最适宜生长的环境，并保障石斛的高品质。

附图说明

图1为本实用新型的石斛栽培水份管理装置的第一种模式的一个优选实施例的结构示意图；

图2为本实用新型的石斛栽培水份管理装置的第二种模式的一个优选实施例的结构示意图；

图3为本实用新型的石斛栽培水份管理装置的第三种模式的一个优选实施例的结构示意图；

图4为本实用新型的石斛栽培水份管理装置的第四种模式的一个优选实施例的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型更加容易理解，下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。应理解，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，下列实施例中未提及的具体实验方法，通常按照常规实验方法进行。

实施例1：本实用新型的石斛栽培水份管理装置的第一种模式的一个优选实施例

本实用新型的石斛栽培水份管理装置的第一种模式见图1，图1是本实用新型的石斛栽培水份管理装置的一个优选实施例的结构示意图。