[实用新型]薄膜晶体管、阵列基板及显示器有效

专利信息
申请号: 201320386899.6 申请日: 2013-07-01
公开(公告)号: CN203312302U 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 阎长江;蒋晓纬;姜晓辉;谢振宇;陈旭 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L27/12;G02F1/1362
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 显示器
【权利要求书】:

1.一种薄膜晶体管,包括源极和漏极、半导体有源层、栅极绝缘层和栅极,其特征在于,该薄膜晶体管还包括:位于源极与漏极之间的遮光板,所述遮光板将源极与漏极阻断,所述遮光板位于半导体有源层的入射光侧,阻挡入射光对半导体有源层的照射。

2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述遮光板的材料为金属钛的氧化物或金属铝的氧化物。

3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述源极和所述漏极为双层结构或多层结构,所述源极包括第一源极层和第二源极层;所述漏极包括第一漏极层和第二漏极层;其中,第一源极层和第一漏极层位于衬底基板上,第二源极层位于第一源极层上并覆盖第一源极层,第二漏极层位于第一漏极层上并覆盖第一漏极层。

4.根据权利要求3所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述第二源极层和/或第二漏极层为锯齿状保护层。

5.根据权利要求3所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述第一源极层的材料为钛Ti或铝Al金属;所述第一漏极层的材料为钛Ti或铝Al金属。

6.根据权利要求3所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述第二源极层的材料为钼Mo或铬Cr金属;所述第二漏极层的材料为钼Mo或铬Cr金属。

7.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括权利要求1-6任一权项所述的薄膜晶体管。

8.一种显示器,其特征在于,所述显示器包括权利要求7所述的阵列基板。

9.根据权利要求8所述的显示器,其特征在于,所述显示器包括与所述阵列基板平行设置的彩膜基板,以及位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层。

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