[实用新型]多通道荧光光谱探测系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学显微镜探测技术领域，尤其是涉及一种多通道荧光光谱探测系统。

背景技术

光学显微镜（远场）具有对被观测物质非侵入性的特点和多色观察能力，在观察时对观测物的干扰或损伤较小，这些特点使得光学显微镜在工业检测、生物医学、材料学研究中获得了广泛的应用。激光扫描共聚焦显微镜（Confocal Laser Scanning Microscope，CLSM）和受激辐射损耗（StimulatedEmission Depletion，STED）显微镜是目前比较高端的光学显微镜，它们均采用点扫描成像方式，在成像探测部分设置一个精密针孔，通过针孔滤波技术，使得只有处于焦平面位置上的组织信息能够被探测，最大限度地抑制了非聚焦平面的杂散光，具有很高的成像分辨率和信噪比。

将光谱成像探测技术和CLSM、STED等显微技术相结合，可以使得显微成像系统一方面具有高的空间分辨率，另一方面可以对物质成分进行精确区分，将大大扩大CLSM、STED等显微镜的应用范围，而目前尚未有类似的报道。

实用新型内容

本实用新型的目的是：提供一种多通道荧光光谱探测系统，该多通道荧光光谱探测系统能够对多荧光光谱同时采集。

本实用新型的技术方案是：一种多通道荧光光谱探测系统，包括针孔及荧光光谱探测单元；

所述荧光光谱探测单元包括准直透镜、分光棱镜、聚焦透镜、第一反射镜、第二反射镜、第一光电倍增管、第一中继透镜、第一可变狭缝、第二光电倍增管、第二中继透镜、第二可变狭缝、第三光电倍增管；

荧光信号透过所述针孔后被所述准直透镜准直成平行光束，所述平行光束经所述分光棱镜分光后入射进入所述聚焦透镜，并被所述聚焦透镜聚焦于光谱面处；

所述光谱面处的部分或全部光束再透过由位于所述光谱面处的所述第一反射镜和第二反射镜形成的狭缝后进入所述第一光电倍增管，以形成第一荧光探测通道；其中，所述第一反射镜和第二反射镜的位置可调节，通过调节所述第一反射镜和第二反射镜的位置以改变所述狭缝的宽度和在所述光谱面处的位置，实现对进入所述第一光电倍增管中荧光的带宽和光谱位置调节；

所述光谱面处的部分或全部光束被位于所述光谱面处的第一反射镜反射进入所述第一中继透镜，所述第一中继透镜将所述光谱面成像到所述第一可变狭缝处，透过所述第一可变狭缝的光束进入所述第二光电倍增管，以形成第二荧光探测通道；其中，所述第一可变狭缝的宽度和位置可改变，通过改变所述第一可变狭缝的宽度和位置，实现对进入所述第二光电倍增管中荧光的带宽和光谱位置调节；

所述光谱面处的部分或全部光束被位于所述光谱面处的第二反射镜反射进入所述第二中继透镜，所述第二中继透镜将所述光谱面成像到所述第二可变狭缝处，透过所述第二可变狭缝的光束进入所述第三光电倍增管，以形成第三荧光探测通道；其中，所述第二可变狭缝的宽度和位置可改变，通过改变所述第二可变狭缝的宽度和位置，实现对进入所述第三光电倍增管中荧光的带宽和光谱位置调节。

下面对上述技术方案进一步解释：

所述多通道荧光光谱探测系统还包括控制单元，所述控制单元与所述第一反射镜、第二反射镜及第一光电倍增管电性连接，在所述控制单元的控制下，所述第一反射镜和第二反射镜可单独或联合移动，以改变所述第一反射镜和第二反射镜形成的狭缝的宽度和在光谱面处的位置，实现对进入到所述第一光电倍增管中荧光的带宽和光谱位置的调节。

所述多通道荧光光谱探测系统还包括控制单元，所述控制单元与所述第一可变狭缝及所述第二光电倍增管电性连接，在所述控制单元的控制下，所述第一可变狭缝的宽度和位置可改变，实现对进入所述第二光电倍增管中荧光的带宽和光谱位置调节。

所述多通道荧光光谱探测系统还包括控制单元，所述控制单元与所述第二可变狭缝及所述第三光电倍增管电性连接，在所述控制单元的控制下，所述第二可变狭缝的宽度和位置可改变，实现对进入所述第三光电倍增管中荧光的带宽和光谱位置调节。

所述第一可变狭缝及第二可变狭缝由可变光阑形成。

本实用新型的优点是：