[实用新型]真空密封件分压漏率测量装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空密封件分压漏率测量装置，属于测量技术领域。

背景技术

极紫外光刻(EUVL)是目前国际上最具潜力、可以满足CD32/22/16nm等节点IC量产的光刻技术。由于大部分气体都吸收13.5nm的极紫外光，尤其是碳氢化合物、水蒸汽等对极紫外光具有强烈吸收作用，因此需要提供给光刻机清洁的真空环境。

光刻机内部具有大量的电子电路系统，其中的PCB板和电子元器件在真空环境下会释放出大量的污染性气体和微粒，严重破坏光刻机工作环境，因此需要为电子电路系统设计真空密封壳体，以防止其释放出的污染性气体和微粒直接进入光刻机内部工作环境。

对于极紫外光刻系统，真空密封壳体最重要的性能指标不是总漏率，而是碳氢化合物、水蒸汽等气体的分压漏率。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型所要解决的技术问题是动态、实时、准确测量真空密封件漏气组分及其分压漏率，以及总漏率，同时尽可能消除真空规x射线效应、电子激励脱附效应及化学效应等对测试过程的影响，以便准确、全面的测量和评价真空密封件的漏气性能。

(二)技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型提出一种真空密封件分压漏率测量装置，包括一个超高真空室、一个测试室、一个样品室，以及一个第一质谱计和一个第二质谱计(。)其中，所述超高真空室与所述测试室通过一个小孔相连通，所述测试室通过一个气体管道与所述样品室相连接；所述超高真空室与一个第一抽气泵组相连接，该第一抽气泵组用于从该超高真空室中抽取气体；所述样品室用于放置所述真空密封件；所述第一质谱计和第二质谱计分别与所述超高真空室和所述测试室相连接，以测量该超高真空室和测试室内的气体成分的分压。

根据本发明的一种具体实施方式，真空密封件分压漏率测量装置还包括一个第二抽气泵组和一个气瓶，其中，所述第二抽气泵组用于对所述真空密封件进行抽气，所述气瓶用于对所述真空密封件进行充气。

根据本发明的一种具体实施方式，所述第二抽气泵组和气瓶分别通过第一截止阀和第二截止阀与所述真空密封件连接。

根据本发明的一种具体实施方式，该真空密封件分压漏率测量装置的各个部件的材料均采用316牌号不锈钢。

根据本发明的一种具体实施方式，该真空密封件分压漏率测量装置的焊接均采用氩弧自熔焊。

根据本发明的一种具体实施方式，该真空密封件分压漏率测量装置的部件间的法兰接口全部采用金属密封。

(三)有益效果

与现有技术相比，本实用新型提出的分压漏率测量装置能够消除质谱计X射线效应、电子激励脱附效应及化学效应带来的负面影响，准确测量真空密封件漏气组分，并能动态、实时、准确地测量真空密封件的分压漏率和总漏率。

附图说明

图1为本实用新型的一个实施例的真空密封件分压漏率测量装置的结构示意图。

具体实施方式

为解决上述技术问题，本实用新型提出一种真空密封件分压漏率测量装置。该测量装置包括超高真室、测试室和样品室，超高真空室与测试室通过小孔相连通，测试室通过气体管道与样品室相连接。该装置以质谱计为测量仪器，通过动态流量法，实时测量真空密封件漏气组分及其漏气量，进而计算真空密封件的分压漏率和总漏率。

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本实用新型作进一步的详细说明。

图1为本实用新型的一个实施例的真空密封件分压漏率测量装置的结构示意图。如图1所示，该实施例的真空密封件分压漏率测量装置包括超高真空室2、测试室6和样品室7。超高真空室2与测试室6通过一个小孔4相连通，测试室6通过气体管道14与样品室7相连接。超高真空室2与一个第一抽气泵组1相连接，第一抽气泵组1用于从超高真空室2中抽取气体。样品室7用于放置真空密封件8，所述真空密封件8是能够被密闭的腔体，腔体中内置放气元件9，本实用新型的测量装置即用于测量该真空密封件8对于放气元件9放出的气体(尤其是污染性气体)的分压漏率。

所述真空密封件8可以通过第一截止阀10和第二截止阀12分别与一个第二抽气泵组11和一个气瓶13连接，第二抽气泵组11用于对该真空密封件8的空腔进行抽气，气瓶13用于对真空密封件8的空腔进行充气，由此，可以实现真空密封件8的充气和真空两种工况。所述第一截止阀10、第二截止阀12、第二抽气泵组11和气瓶13可以作为本实用新型的测量装置的一部分，也可以作为本实用新型的测量装置的外设部件。