[实用新型]圆柱状钕铁硼磁体有效
申请号: | 201320449486.8 | 申请日: | 2013-07-24 |
公开(公告)号: | CN203480979U | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 鲍金胜 | 申请(专利权)人: | 浙江鑫盛永磁科技有限公司 |
主分类号: | H01F7/02 | 分类号: | H01F7/02;H01F41/02 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 313300 浙江省湖州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆柱状 钕铁硼 磁体 | ||
技术领域
本实用新型涉及用于电机、传感器上的磁体,尤其涉及了一种圆柱状钕铁硼磁体。
背景技术
目前,在电机、传感器等设备上,都需要应用磁体,而现有的磁体,由于其磁性差、磁性不稳定,容易损坏等缺点,导致磁性设备无法正常、高效的运行。同时,由于磁体装配性差,也导致磁体无法与磁性设备精确配合,影响设备的安装。
发明内容
本实用新型针对现有技术中磁体的稳定性差,容易损坏,安装定位复杂等缺点,提供了一种在磁体上设置定位凹槽,便于安装定位,同时设置保护层,使磁体磁性更加稳定,不易损坏的圆柱状钕铁硼磁体。
为了解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案得以解决:
圆柱状钕铁硼磁体,包括磁体,所述的磁体为圆柱体,磁体上设有凹槽,磁体外包裹保护层,保护层为电泳层,电泳层为环氧树脂层,磁体表面的粗糙度为1—50μm。通过在磁体表面设置具有耐冲击性能的环氧树脂层,使得磁体在应用于抗冲击的环境中,一直具有稳定的磁性,保证了磁性设备的正常使用。通过在磁体上设置凹槽,便于磁体在安装过程中的装配和定位,提高设备的安装效率。一方面能够提高磁体的中间层与保护层的结合力,另一方面,为提高保护层的厚度提供了必要条件。
作为优选,所述的凹槽为圆柱体。
作为优选,所述的凹槽为长方体。
作为优选,所述的凹槽为一个,设置在磁体中部。
作为优选,所述的凹槽为两个以上,凹槽以磁体上表面的几何中心为圆心,均匀分布。通过设置多个凹槽,使得磁体安装更加稳定和精确,提高设备的安装精度和安装效率。
作为优选,所述的保护层为电镀层,电镀层为镀锌层或镀镍层。通过设置镀锌层或镀镍层,提高了磁体的抗腐蚀性能。
本实用新型由于采用了以上技术方案,具有显著的技术效果:本实用新型通过在磁体上设置定位凹槽,便于安装定位,同时设置保护层,使磁体具有磁性稳定,不易损坏,抗腐蚀性强等优点。
附图说明
图1是本实用新型实施例1的结构示意图。
图2是图1中A—A面的截面图。
以上附图中各数字标号所指代的部位名称如下:其中1—磁体、2—凹槽、11—保护层。
具体实施方式
下面结合附图1至图2与实施例对本实用新型作进一步详细描述:
实施例1
圆柱状钕铁硼磁体,如图1至图2所示,包括磁体1,所述的磁体1为圆柱体,磁体1上设有凹槽2。通过在磁体1上设置凹槽2,便于磁体在安装过程中的装配和定位,提高设备的安装效率。
凹槽2为圆柱体。凹槽2为一个,设置在磁体1中部。
磁体1外包裹保护层11。磁体表面的粗糙度为8μm。一方面能够提高磁体 的中间层与保护层的结合力,另一方面,为提高保护层的厚度提供了必要条件。
保护层11为电泳层,电泳层为环氧树脂层。通过在磁体表面设置具有耐冲击性能的环氧树脂层,使得磁体在应用于抗冲击的环境中,一直具有稳定的磁性,保证了磁性设备的正常使用。
实施例2
凹槽2为长方体,凹槽2为两个,凹槽2以磁体1上表面的几何中心为圆心,均匀分布。通过设置多个凹槽2,使得磁体安装更加稳定和精确,提高设备的安装精度和安装效率。
保护层11为电镀层,电镀层为镀锌层或镀镍层。通过设置镀锌层或镀镍层,提高了磁体的抗腐蚀性能。磁体1的外缘设置45°倒角,有利于磁体的安装与定位。
总之,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本实用新型专利的涵盖范围。
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