[实用新型]真空高温烘烤炉的放置台面有效
申请号: | 201320531850.5 | 申请日: | 2013-08-28 |
公开(公告)号: | CN203429250U | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 孟祥好;夏友龙;孙统畅;孙益鹏 | 申请(专利权)人: | 晶旺光电(徐州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 徐州支点知识产权代理事务所(普通合伙) 32244 | 代理人: | 张荣亮 |
地址: | 221000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 高温 烤炉 放置 台面 | ||
1.一种真空高温烘烤炉的放置台面,包括腔体内壁(1)、内隔热层(2)和充压孔(3),所述内隔热层(2)位于腔体内壁(1)的内部,充压孔(3)设置在腔体内壁(1)上部,其特征在于:穿过腔体内壁(1)与内隔热层(2)的下部设置有下排气孔(4),所述下排气孔(4)连接外部排气管道,所述排气管道为T型管道,位于排气管道的支路上分别设置有主抽阀(5)和小流量阀(7),且排气管道上还分别设置有两个侧排气孔(6),且其中一个侧排气孔(6)伸入到腔体内壁(1)内;位于内隔热层(2)内部以及下排气孔(4)的上方设置有加热件(10),所述加热件(10)的内部设置有石墨平台(8),所述石墨平台(8)上设置有石墨架(9)。
2.根据权利要求1所述的真空高温烘烤炉的放置台面,其特征在于:所述下排气孔(8)的周围设置有若干加强筋。
3.根据权利要求1或2所述的真空高温烘烤炉的放置台面,其特征在于:所述的加热件(10)为石墨加热件。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的