[实用新型]真空高温烘烤炉的放置台面

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空高温烘烤炉的放置台面，特别是用在MOCVD使用后的石墨盘的洁净烘烤处理设备上。

背景技术

目前，市场上同类的产品使用的台面为实体台面，设备工作时，气流从侧面被排出，石墨架上的灰尘及石墨盘上掉落的微粒会残留在台面上及被烘烤物品上，影响烘烤质量，并且直接影响到MOCVD产品的产出质量，部分微粒也会附着在腔体内，影响机器运行的环境，每次运行机器前需彻底清洁，无论是对机台环境还是工作效率都产生了很大的影响。

发明内容

为了克服上述缺陷，本实用新型提供一种可直接受热以及快速传热的真空高温烘烤炉的放置台面，其不仅可以改善产品的质量，而且可以提高工作效率。

本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空高温烘烤炉的放置台面，包括腔体内壁、内隔热层和充压孔，所述内隔热层位于腔体内壁的内部，充压孔设置在腔体内壁上部，穿过腔体内壁与内隔热层的下部设置有下排气孔，所述下排气孔连接外部排气管道，所述排气管道为T型管道，位于排气管道的支路上分别设置有主抽阀和小流量阀，且排气管道上还分别设置有两个侧排气孔，且其中一个侧排气孔伸入到腔体内壁内，位于内隔热层内部以及下排气孔上方设置有加热件，所述加热件的内部设置有石墨平台，所述石墨平台上设置有石墨架。

所述下排气孔的周围设置有若干加强筋，加强筋的设置，确保了下排气孔开孔后周边的牢固性。

所述的加热件为石墨加热件。

本实用新型的有益效果是：产品投入后，被烘烤产品可以直接受热，传热快，选择从机台下部气孔排气，可改变气流走向，将石墨平台上掉落在底部的微粒及石墨架上掉落的灰尘直接从下部排走，保持放置台面及腔体内部的清洁，减少了机台内的覆盖涂层及清洁作业，提高了作业效率，最大限度地降低了石墨平台对MOCVD生长产品质量的影响。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

其中：1、腔体内壁，2、内隔热层，3、充压孔，4、下排气孔，5、主抽阀，6、侧排气孔，7、小流量阀，8、石墨平台，9、石墨架，10、加热件。

具体实施方式

实施例：

如图1所示，一种真空高温烘烤炉的放置台面，包括腔体内壁1、内隔热层2和充压孔3，所述内隔热层2位于腔体内壁1的内部，充压孔3设置在腔体内壁1上部，穿过腔体内壁1与内隔热层2的下部设置有下排气孔4，所述下排气孔4连接外部排气管道，所述排气管道为T型管道，位于排气管道的支路上分别设置有主抽阀5和小流量阀7，且排气管道上还分别设置有两个侧排气孔6，且其中一个侧排气孔6伸入到腔体内壁1内，位于内隔热层2内部以及下排气孔4上方设置有加热件10，所述加热件10的内部设置有石墨平台8，所述石墨平台8上设置有石墨架9。

所述下排气孔4的周围设置有若干加强筋，加强筋的设置，确保了下排气孔4的牢固性。

所述的加热件10为石墨加热件.

本装置通过真空高温设备，通过程式排气阀门的设定，可以改变气体的走向，在真空低压的状况下，对被烤物加热的同时，不断的通过充、抽压系统将附着在被烤物品表面的反应物分解，排除腔体。

在产品投入后，被烘烤产品可以直接受热，传热快，选择从机台下部气孔排气，可改变气流走向，将石墨平台上掉落在底部的微粒及石墨架上掉落的灰尘直接从下部排走，保持放置台面及腔体内部的清洁，减少了机台内的覆盖涂层及清洁作业，提高了作业效率，最大限度地降低了石墨平台对MOCVD生长产品质量的影响，最终达到洁净被烤物品的目的。