[实用新型]连续式纳米图案装置及利用其制造的防反射基板

权利要求书

1.一种连续式纳米图案装置，用于将纳米图案形成于基板的表面，其特征在于，包括： 

加载锁舱室（10），其将作为非加工物的基板投入到工艺中； 

溅射舱室（20），从上述加载锁舱室（10）排出的基板投入其中，并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜； 

蚀刻舱室（30），在表面形成有纳米掩膜的基板投入其中，并且蚀刻上述基板的表面后，形成纳米掩膜；以及 

卸载锁舱室（40），其将形成有纳米图案的基板排出至装置外部， 

并且，上述舱室通过一个连续式设备进行连接，从而投入至上述加载锁舱室（10）的基板连续经过上述溅射舱室（20）及蚀刻舱室（30）后，从上述蚀刻舱室（40）排出。 

2.根据权利要求1所述的连续式纳米图案装置，其特征在于，上述连续式设备包括： 

基板移送装置（100），其在上述舱室之间或者内部对基板进行移送； 

驱动装置，其对上述基板移送装置进行驱动； 

感知装置，其在上述基板移送装置上对基板的位置进行感知；以及 

控制装置，其通过上述感知装置的感知对上述驱动装置进行控制。 

3.根据权利要求2所述的连续式纳米图案装置，其特征在于，上述基板移送装置（100）包括： 

支撑部件（110），其使得作为非加工物的基板位于上部；以及 

加热装置，其用于调节上述基板的温度。 

4.根据权利要求3所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

在上述支撑部件（110）非透明的情况下，在上述支撑部件（110）的一定区域上形成多个孔（111）。 

5.根据权利要求1所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

为了控制上述加载锁舱室（10）、溅射舱室（20）、蚀刻舱室（30）以及卸载锁舱室（40）的工艺时间并防止各个舱室之间因工艺气体混合的污染，在各个舱室之间设置一个以上的缓冲舱室（50）。 

6.根据权利要求1所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

考虑到各个舱室的节拍时间，相对节拍时间长的工艺中，将相同的2个以上的舱室进行并列连接，从而驱动工艺。 

7.根据权利要求1所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

在上述溅射舱室（20）内部，基板表面上的溅射工艺可通过溅射靶材移动的同时实现。 

8.根据权利要求1所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

为了控制工艺的稳定性及反复性，在上述溅射舱室（20）或者蚀刻舱室（30）中还包括原位监控装置（60、70）。 

9.根据权利要求8所述的连续式纳米图案装置，其特征在于，上述原位监控装置（60、70）包括： 

一个以上光源（61、71），其向作为非加工物的基板表面照射光；以及 

检测器（62、72），其对光的强度进行实时监控，上述光从上述光源照射后透射或者反射到上述基板。 

10.根据权利要求9所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

在设置有上述光源（61、71）或者检测器（62、72）的舱室的一定区域中，在舱室的壁面设置有光容纳部（90）。 

11.根据权利要求10所述的连续式纳米图案装置，其特征在于，上述光容纳部（90）包括： 

窗口（91），其设置于舱室的内部和外部的交界面，从而容纳从上述光源（61、71）所散发的光或者透射或反射到基板的光；以及 

光导向（92），其用于提高从上述光源（61、71）所散发至舱室内部的光的直线性，或者将其他光的干扰最小化，从而对无噪声地透射或者反射到基板的光进行监控， 

并且，上述光导向（92）设置于上述窗口（91）和光源（61、71）或者上述窗口（91）和检测器（62、72）之间。 

12.根据权利要求9所述的连续式纳米图案装置，其特征在于： 

上述检测器（62、72）和光源（61、71）根据整个工艺的规模、装置大小以及所处理的基板的大小，向基板的横向和纵向设置多个。