[实用新型]连续式纳米图案装置及利用其制造的防反射基板

说明书

技术领域

本实用新型涉及在基板表面的纳米图案（nano-patterning）涂覆技术，更详细地涉及用于在基板赋予纳米图案的防反射功能的连续式（In-line）纳米图案装置及利用其制造的防反射基板。 

背景技术

以手机、平板电脑等使用触摸功能的显示器为首，如电视、电脑显示器等一样的平板显示器的覆盖窗口（cover window）、太阳能电池的覆盖窗口、建筑物的外部玻璃、眼镜、汽车玻璃等中，减少光的反射，从而提高设备的效率的同时，提高清晰度的防反射（AR,Anti-Reflection）实现技术在现有学界和业界中受较高关注的技术领域。 

通常，在光所透射的界面中存在两个介质之间的折射率差异的情况下，根据“菲涅尔的反射规律”产生光的反射现象。光所反射的程度根据“反射率”进行决定，上述“反射率”根据两个介质之间的折射率差异、入射角及反射角等会有所不同。 

特别是，在将显示器具使用于如野外一样的外部光的强度大的情况下，根据小的反射率也可反射仅次于从内部所散发的光程度的光，因此清晰度会变得非常低。另外，在太阳能电池的覆盖窗口的情况下，太阳光的透射率越高，太阳能电池的效率性，即发电量会越增加，因此具有需减少反射的技术性课题。 

另外，建筑物的外部玻璃或汽车玻璃等中，由于反射而晃眼，则可能产生直接关乎行人及驾驶员的安全问题，从而需要实现一定水准以下的防反射。 

如上所述，为了实现抑制基板表面上的反射的目的，相对于入射光的波长（λ），将具有λ/4左右厚度和折射率的物质涂覆于基板的表面，从而可减少反射，上述折射率是空气和基板之间的折射率。将上述涂覆技术称为防反射（AR）涂覆技术。 

但是，上述技术只可对特定的波长λ抑制反射，从而为了在可见光整个区域实现防反射，需要对于各种波长的防反射层，因此需涂覆成多层薄膜。由此，产生如下问题：根据与基板的附着力弱化的剥离和据此的表面不均一的色彩的表现、根据多层薄膜的厚度调节等。因上述理由而具有如下限制：难于将通过多层薄膜涂覆的防反射技术适用于如触摸板一样的形成频繁接触的表面。 

由此，用于实现防反射的技术为最近受瞩目的研究，所谓利用“蛾眼效果”（moth-eye effect）的技术，其中，将比可见光波长范围小的直径的纳米凸起形成于基板表面，从而在可见光透射形成有如上所述的纳米结构的表面时，无法认识到纳米凸起的存在，只是根据凸起的形状，识别基板表面的折射率逐步地产生变化，从而获得多层薄膜涂覆的效果。 

相对于将上述纳米凸起形成于基板表面的技术，本申请人着眼于如下方法：①对低熔点金属的热凝聚进行控制，并且将其利用为纳米掩膜并进行蚀刻，从而混合有纳米/微尺度的凸起的形状的防反射表面制造方法，以及将形成有上述防反射表面的基板（专利申请第2012-0131676号）和②形成纳米掩膜的金属的种类、蒸镀时间及蒸镀温度等在化学气相蒸镀（CVD）或者物理气相蒸镀（PVD）的方法中进行控制，从而在单一或者多个容器（chamber）中形成纳米掩膜后，通过蚀刻工艺将各种大小的纳米凸起形成于贱金属（base metal）的表面的方法（专利申请第2013-006391号）等。 

但是，诸如上述实用新型的现有的防反射实现技术存在生产收益率低、装置设置空间的效率低等问题，并且因实时控制工艺的技术的部件，难于确保工艺的稳定性、均匀性（uniformity）以及反复性。 

实用新型内容

本实用新型是为了解决上述问题而提出的，本实用新型的目的在于提供一种连续式纳米图案装置及利用其制造的防反射基板，其中，不使用高费用的光刻（Photo）工艺，通过溅射（sputtering）方式制造纳米掩膜，与此连续地将蚀刻（etching）工艺通过连续式（In-line）方式进行，从而不仅能够提高生产性，而且可节约装置设置所需的空间。