[实用新型]对平坦基板进行单面湿化学处理的装置

权利要求书

1.一种对平坦基板（2）进行单面湿化学处理的装置，其特征在于，具有：收纳处理液（F）的处理槽（7）；沿输送平面（8）向预定的输送方向水平引导基板（2）沿处理液（F）的表面通过该处理槽（7）的输送装置（4）；至少一个配置在所述输送平面（8）的上侧、向基板（2）的非处理面垂直供给排气（3）的机器（1）。 

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述输送装置（4）具有在输送方向前后配置的多个辊。 

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，垂直供给排气（3）的所述机器（1）具有一个供给口（6）。 

4.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述机器（1）具有多个供给口（6）。 

5.根据权利要求3所述的装置，其中，所述供给口（6）形成为圆形、椭圆形或狭缝状。 

6.根据权利要求4所述的装置，其中，所述供给口（6）形成为圆形、椭圆形或狭缝状。 

7.根据权利要求1、2、5和6中任一项所述的装置，其中，所述机器（1）的宽度超过所述基板（2）的宽度0～10%。 

8.根据权利要求3所述的装置，其中，所述机器（1）的宽度超过所述基板（2）的宽度0～10%。 

9.根据权利要求4所述的装置，其中，所述机器（1）的宽度超过所述基板（2）的宽度0～10%。 

10.根据权利要求4所述的装置，其中，所述机器（1）的供给口（6）在沿输送方向观察时，能够分区段选择性地关闭。 

11.根据权利要求5、6、8和9中任一项所述的装置，其中，所述机器（1）的供给口（6）在沿输送方向观察时，能够分区段选择性地关闭。 

12.根据权利要求7所述的装置，其中，所述机器（1）的供给口（6）在沿输送方向观察时，能够分区段选择性地关闭。 

13.根据权利要求1、2、5、6、8-10和12中任一项所述的装置，其中，所述机器（1）能够沿输送方向移动。 

14.根据权利要求3所述的装置，其中，所述机器（1）能够沿输送方向移动。 

15.根据权利要求4所述的装置，其中，所述机器（1）能够沿输送方向移动。 

16.根据权利要求7所述的装置，其中，所述机器（1）能够沿输送方向移动。 

17.根据权利要求11所述的装置，其中，所述机器（1）能够沿输送方向移动。 

18.根据权利要求1、2、5、6、8-10和12、14-17中任一项所述的装置，其中，所述机器（1）还具有气体和蒸汽用的吸气口。 

19.根据权利要求3所述的装置，其中，所述机器（1）还具有气体和蒸汽用的吸气口。 

20.根据权利要求4所述的装置，其中，所述机器（1）还具有气体和蒸汽用的吸气口。 

21.根据权利要求7所述的装置，其中，所述机器（1）还具有气体和蒸汽用的吸气口。 

22.根据权利要求11所述的装置，其中，所述机器（1）还具有气体和蒸汽用的吸气口。 

23.根据权利要求13所述的装置，其中，所述机器（1）还具有气体和蒸汽用的吸气口。 

24.根据权利要求18所述的装置，其中，所述吸气口配置在所述机器（1）的侧面边缘部区域、侧边缘部及/或上表面。 

25.根据权利要求19-23中任一项所述的装置，其中，所述吸气口配置在所述机器（1）的侧面边缘部区域、侧边缘部及/或上表面。 

26.根据权利要求1、2、5、6、8-10、12、14-17和19-24中任一项所述的装置，其中，设置多个轨道（5），并且具有与这些轨道（5）的数量对应数量的、并列配置的机器（1），所述机器（1）垂直供给排气（3）。 

27.根据权利要求3所述的装置，其中，设置多个轨道（5），并且具有与这些轨道（5）的数量对应数量的、并列配置的机器（1），所述机器（1）垂直供给排气（3）。