[实用新型]一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机有效

专利信息
申请号: 201320564092.7 申请日: 2013-09-12
公开(公告)号: CN203451614U 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 关秉羽 申请(专利权)人: 辽宁北宇真空科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 铁岭天工专利商标事务所 21105 代理人: 靳万清
地址: 112000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 薄膜 电容 负极 连续 卷绕 真空 离子 镀膜
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及连续卷绕真空离子镀膜机技术领域,尤其是涉及一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机。

背景技术

连续卷绕真空离子镀膜机是一种常用的真空镀膜设备,通常用于对较长的软质带材进行镀膜处理,现有技术中的连续卷绕真空离子镀膜机具有镀膜机箱体,镀膜机箱体内依次间隔设有放卷室、过渡室、镀膜室和收卷室,所述放卷室内设有放卷轮盘,所述过渡室内设有基膜传送导辊,所述收卷室内设有收卷轮盘和收卷轮盘驱动电机,所述镀膜室的箱体顶壁和底壁上分别设有磁控靶。以往制备固态电容负极碳箔采用了传统方法,将铝箔先腐蚀、后在化学液体中活化,待复碳、加温烘烤等多道工序制成,碳箔制备工序复杂且劳动强度大,成品率低。目前还没有一次完成固态电容负极碳箔制备的专用设备。

另外上述现有技术中的连续卷绕真空离子镀膜机由于是只设置收卷轮盘驱动电机,通过收卷轮盘转动,牵引基膜在镀膜室及过渡室中行进,采用这种基膜收放方式要求基膜具有较好的韧性,因此采用这种基膜收放方式对金属箔基膜进行镀膜时,容易造成金属箔基膜断裂,使镀膜中断,并且这种基膜收放方式当收卷轮盘驱动电机等速运行时,会导致初期基膜行进速度较慢,末期基膜行进速度较快,造成初期和末期的镀膜厚度不同,影响镀膜质量;此外,现有技术中的卷绕式连续真空镀膜机中没有设置基膜纠偏装置,因此在对较长的基膜作连续镀膜处理时,基膜运行一段时间后,容易偏离导辊中线,影响镀膜质量,严重时需要停机进行调整,影响生产效率。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机,采用该种连续卷绕真空离子镀膜机可以一次完成固态电容负极碳箔的制备,并且制备碳箔的成品率高。

为解决上述技术问题,本实用新型一种制备薄膜式电容负极碳箔的连续卷绕真空离子镀膜机,具有镀膜机箱体,镀膜机箱体内依次间隔设有放卷室、过渡室、镀膜室和收卷室,所述放卷室内设有放卷轮盘,所述过渡室内设有基膜传送导辊,所述收卷室内设有收卷轮盘和收卷轮盘驱动电机,所述镀膜室的箱体顶壁和底壁上分别设有磁控靶,所述过渡室和镀膜室的数量为多个,交错设置在所述放卷室和收卷室之间;所述镀膜室的箱体顶壁和底壁上设置的磁控靶分别为铬材料磁控靶和石墨材料磁控靶。

采用上述连续卷绕真空离子镀膜机可以一次完成固态电容负极碳箔的制备,制备碳箔的成品率高。

作为本实用新型的一种改进,位于所述放卷室和收卷室之间大致中间位置的过渡室内还设有基膜行进纠偏装置,该纠偏装置包括纠偏辊和纠偏辊座;所述纠偏辊为倾角可调式纠偏辊,其包括一个固定端和一个升降端,固定端轴通过角接触球轴承固定在纠偏辊座,升降端设有升降滑套,在升降端的纠偏辊座上设有与升降滑套相配合的升降导轨,所述升降滑套为槽轮形滑套,槽轮形滑套通过调心轴承固定在纠偏辊轴上,所述升降导轨为垂直于纠偏辊座上水平面的两定位板,两定位板之间构成升降滑套滑道;在升降端的纠偏辊座上还设有纠偏辊升降机构,该纠偏辊升降机构包括升降连杆,升降连杆一端通过轴承与纠偏辊轴连接,另一端通过轴承与升降驱动轴端的偏心轴连接,升降驱动轴接纠偏驱动电机。

本实用新型的过渡室内设置的基膜行进纠偏装置,可以通过调整纠偏辊的倾角来实现基膜在导辊上的横向位移,从而达到实时纠偏的目的,可以实时纠正基膜的运行位置,使基膜始终处于最佳位置运行,满足超长连续卷绕真空离子镀膜机的工作要求,提高了镀膜质量,减少了停机调整时间,提高了生产效率。

作为本实用新型的进一步改进,所述纠偏辊的两侧设有基膜位置传感器探头,传感器探头信号输出端接纠偏驱动电机控制器。采用上述结构特征,可以进一步提高基膜行进纠偏的自动化程度,实现了全自动纠偏操作。

作为本实用新型的另一种改进,所述放卷轮盘连有放卷轮盘驱动电机,所述放卷轮盘驱动电机和收卷轮盘驱动电机均为变频调速电机;邻近所述放卷室的过渡室内还设有基膜行进速度主动控制压辊,在压辊上设有速度传感器,速度传感器信号输出端接所述放卷轮盘驱动电机变频控制器和收卷轮盘驱动电机变频控制器。

通过设置放卷轮盘驱动电机减小了基膜所受的牵拉力,基膜行进镀膜时不易断裂,在压辊上设置速度传感器,通过传感器输出信号实时调整驱动电机的转速,使基膜的行进速度稳定不变,成膜厚度均匀一致。

作为本实用新型的更进一步改进,所述放卷室和邻近所述收卷室的过渡室内还设有基膜张力缓冲装置,该基膜张力缓冲装置由绕摆轴转动的缓冲摆杆和缓冲摆杆复位装置构成,在摆杆上设有基膜张力缓冲导辊。

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