[实用新型]一种制药设备在位清洗机组

权利要求书

1.一种制药设备在位清洗机组，包括罐体、换热器和机组控制柜，其特征是，所述的换热器为无菌双管板换热器，所述罐体的上下两端通过管路分别与换热器相连，罐体与换热器之间的管路上分别设置有气动隔膜阀，罐体下端与换热器之间的管路上设有清洗泵和回流泵，与换热器相连的蒸汽管路上设置有电动调节阀；罐体的下方设有两个酸碱罐，两个酸碱罐分别通过计量泵连接到罐体；各个阀门均与机组控制柜相连接。

2.根据权利要求1所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述的罐体为制药专用清洗罐，罐体内表面光洁度小于0.41微米，罐体外表面设有保温层。

3.根据权利要求2所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述保温层的厚度为50毫米。

4.根据权利要求3所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述罐体采用不锈钢材料制作，罐体内部的拐角处均形成圆角过渡，罐体的连接处均为焊接而成。

5.根据权利要求4所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述的气动隔膜阀包括上阀门和下阀门，上阀门和下阀门设置在一分配器上端。

6.根据权利要求5所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述管路均为无盲管设计，全排空。

7.根据权利要求1或6所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述机组控制柜上设有人机界面，人机界面的显示屏为触摸屏。

8.根据权利要求1或6所述的一种制药设备在位清洗机组，其特征是，所述换热器采用316L不锈钢制成。