[实用新型]边缘刻蚀装置

权利要求书

1.一种边缘刻蚀装置，用于晶圆的边缘刻蚀，包括相对设置的上电极组件和下电极组件，其特征在于，

所述上电极组件包括上电极，所述下电极组件包括下电极，所述上电极和下电极与所述晶圆具有重叠区域；

至少上电极组件或下电极组件固定所述晶圆。

2.如权利要求1所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，所述上电极组件包括上PEZ环，所述下电极组件包括下PEZ环，所述上PEZ环和下PEZ环的外径小于所述晶圆的直径。

3.如权利要求2所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，所述上电极位于所述上PEZ环边缘外侧，所述下电极位于所述下PEZ环边缘外侧；所述上电极和下电极与所述晶圆具有重叠区域。

4.如权利要求3所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，所述重叠区域沿所述晶圆半径方向的尺寸为2mm-10mm。

5.如权利要求2所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，所述PEZ环设置有凹槽。

6.如权利要求2所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，还包括装载台，分别置于所述上PEZ环和下PEZ环中，并与所述上PEZ环和下PEZ环配合以固定至少一个所述晶圆。

7.如权利要求6所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，所述装载台置于上PEZ环和下PEZ环中后与所述上PEZ环和下PEZ环中形成两个相对的凹槽，所述装载台中连接有真空泵，以便固定所述晶圆。

8.如权利要求1所述的边缘刻蚀装置，其特征在于，所述上电极组件和下电极组件还皆包括支撑架，每个所述支撑架对应连接所述上电极和下电极。