[实用新型]一种真空蒸镀装置

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸发源装置、设在蒸发源装置与待蒸镀基板间的挡板组件，

所述的蒸发源装置设置在所述蒸镀腔室的中心区域；

所述的挡板组件具有与所述蒸发源装置位置相对应的用于使蒸镀物质通过的挡板组件开口。

2.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的挡板组件开口的大小和/或形状可调。

3.如权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的挡板组件包括至少两个位于蒸镀腔室高度方向的不同位置的挡板，所述的挡板具有开口，所述的挡板能在水平方向移动，所述各挡板的开口重合位置形成所述挡板组件开口。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的蒸发源装置包括至少两个可移动的点蒸发源，所述点蒸发源可移动至对应所述挡板组件开口处。

5.如权利要求4所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的蒸发源装置包括用于承载所述点蒸发源的可移动的支架。

6.如权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的支架为圆盘形，可绕其圆心旋转，所述的点蒸发源沿所述的支架的圆周等间距分布。

7.如权利要求6所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的蒸发源装置为3个，各蒸发源装置的所述的支架直径相同，且各支架的圆周与其余两个支架的圆周外切。

8.如权利要求4所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的蒸发源装置包括条状的用于承载点蒸发源的支架和与支架平行设置的直线导轨，所述的支架可沿直线导轨移动。

9.如权利要求8所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的蒸发源装置的数量为多个，各蒸发源装置的直线导轨相互平行且并列的设置。

10.如权利要求9所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述的点蒸发源在所述的支架的长度方向上等间距设置。