[实用新型]锤头以及具有该锤头的破碎机有效

专利信息
申请号: 201320689925.2 申请日: 2013-11-04
公开(公告)号: CN203663912U 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 根本贤次 申请(专利权)人: 株式会社根本铁工所
主分类号: B02C13/28 分类号: B02C13/28;B02C13/04
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 代理人: 韩登营
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 锤头 以及 具有 破碎
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种锤头以及破碎机,更详细来讲,使用该锤头能够调整破碎或粉碎时的撞击造成的磨损的特性(形态),另外,采用该破碎机,无论锤头是否磨损,都能够对破碎或粉碎对象物的粒度进行控制。

背景技术

在现有技术中,人们使用如下一种破碎机或粉碎机,即,该破碎机或粉碎机以焦炭用煤(炼焦煤)、废塑料、废料或废弃物、混凝土块等为对象进行破碎或粉碎。

例如,专利文献1和专利文献2公开有一种用于对焦炭用煤进行破碎的破碎机。

该破碎机具有壳体、锤击机构、反击式(被动式)固定刀具、转动驱动机构,其中,壳体具有用于将破碎或粉碎对象物投入破碎机内部的投入口,且在破碎机的内部形成破碎或粉碎空间,锤击机构具有:转子(转动体),其设置在壳体内且能够转动;锤杆,其一端固定在转子的外周部上;锤头,其被固定在锤杆的另一端部上,反击式固定刀具能够相对于锤击机构进行移动,从而确保与锤头的移动轨迹之间具有规定的间隔,转动驱动机构用于使锤击机构转动,该破碎机利用锤头和反击式固定刀具的协同动作,进行破碎或粉碎。

尤其是,如图10所示,在锤头100中,在锤头主体106的破碎侧顶端的短边平面102的整个表面和与之相连的长边侧表面104的一部分上形成深度为2mm~10mm的减厚部(材料被去除而形成的空间),对该减厚部实施硬面堆焊,以在其上形成倒U字形的硬面堆焊部101,从而填补了减厚部。

采用上述结构的锤头100时,在锤头主体106的破碎侧顶端的短边平面102的整个表面和与之相连的长边侧表面104的一部分上形成深度为2mm~10mm的减厚部(材料被去除而形成的空间),对该减厚部实施焊接,以在其上形成倒U字形的硬面堆焊部101,从而填补了减厚部。因而能够使承受撞击的部分全部由具有2mm~10mm足够厚度的硬面堆焊部覆盖。而且,由于硬面堆焊部形成在减厚部处,因而使该硬面堆焊部的端部既不会突出,也不会因撞击而剥离。因此,能够使锤头100长时间的维持良好的破碎能力。

但是,在现有的上述锤头以及具有该锤头的破碎机中,存在如下技术问题。

第1问题:关于锤头100,在锤头100随着粉碎或破碎动作而产生磨损时,与没有设置硬面堆焊部相比,构成锤头100的撞击接收面(撞击承受面)的硬面堆焊部101能够提高锤头100的耐磨损性,但是,很难调整其磨损特性(磨损形态或者磨损方式)。

更详细来讲,如图11所示,用于接受撞击的硬面堆焊部101以在其宽度方向(图11中(A))和其高度方向(图11中(B))上分别形成圆角的方式(由线条表示磨损的情况变化)被磨损(参见图中R所示处)。换言之,硬面堆焊部101的撞击接收面由在其和端面之间形成的第1棱边(角部)103、在其和各个相对侧表面之间形成的第2棱边105及第3棱边107构成,并且第1棱边103、第2棱边105以及第3棱边107形成得较为尖锐,此时,由于分别构成第1棱边103、第2棱边105及第3棱边107的各构成面由相同材质的硬面堆焊部101构成,因此,第1棱边103、第2棱边105及第3棱边107均以角部被倒圆的方式被磨损。

当磨损以这样的磨损形态发生时,不得不更换锤头,该更换作业会降低粉碎或破碎的效率。

第2问题:由于很难调整上述锤头100的磨损特性,因而使具有上述锤头100的破碎机难以对粉碎或破碎对象物的粒度进行控制管理。

更详细来讲,反击式固定刀具能够相对于锤击机构进行移动,从而确保相对于锤头的转动轨迹之间具有规定的间隔,另外,在锤头的磨损加剧时,使反击式固定刀具相对于锤头移动并使其靠近该锤头,从而能够调整反击式固定刀具和锤头的顶端之间的间隔。

但是,当锤头以图11所示的方式磨损时,即使调整反击式固定刀具和锤头的顶端之间的间隔,在技术上,也很难对破碎对象物的粒度进行一定的控制管理,从而使粒度产生不均匀的情况,导致破碎物的品质劣化。

尤其是,用于制铁的焦炭用煤的粒度管理要求很严格,为了对该破碎对象物的粒度进行一定的控制管理,当锤头产生上述方式的磨损时,不得不更换锤头。

更具体来讲,在现有技术中,粒度调整是通过调整转子的转速或者调整锤头和反击式固定刀具之间的间隔来进行的,前者为通过调整锤头的撞击负荷接收面所产生的撞击力而进行的粒度调整且为粗调,另外,与前者相比,后者为微调,在粒度管理的要求较严格时,重点将在于后者上。

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