[实用新型]双行程式磨抛机构有效
申请号: | 201320699469.X | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN203636541U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 吴仕飞;孙建伟;虞臣昌;林立铭;王克求 | 申请(专利权)人: | 浙江正威机械有限公司 |
主分类号: | B24B9/08 | 分类号: | B24B9/08 |
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地址: | 325207 浙江省瑞安*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双行 程式 机构 | ||
技术领域
本发明涉及一种水钻磨抛机,具体是涉及一种应用于水钻磨抛机的磨抛机构。
背景技术
目前,全自动水钻磨抛机一般为无人组水钻加工方式,主要加工水钻品、服饰、工艺品、首饰等物件,其磨抛机构的高度、角度位置的变化由气缸带动,其行程难以准确控制、精度较差,且气缸工作冲击力较大,不利于水钻物件的加工,从而影响了水钻物件的加工质量。
发明内容
本发明的目的在于克服上述的不足,而提供一种能准确控制磨抛组件的高度、角度位置以有利于物件加工的双行程式磨抛机构。
本发明的目的通过如下技术方案来实现:双行程式磨抛机构,包括机架、磨抛组件,该磨抛组件通过导轨斜向装在机架上,在所述机架上、并在磨抛组件的两下部处通过凸轮顶轴承装有凸轮,在该凸轮之间内通过膨胀套而套有凸轮轴,所述凸轮轴的一端通过中间传动组件与动力源相连。
采用本发明结构后,凸轮轴旋转而带动两凸轮同步转动,从而推动磨抛组件作斜边直线运动。当凸轮转到某点时,磨抛组件到达一高度、一角度时,则凸轮光电组件发出信号,动力源停止工作,由磨抛组件对物件进行磨抛。其行程能得到准确控制、精度较高,工作平稳可靠,操作自动化高,提高了工作效率和加工质量,降低了生产成本。
附图说明
下面结合附图与实施方式对本发明作进一步的详细描述。
图1为本发明双行程式磨抛机构的安装结构示意图。
图2为图1的部分侧向视图。
图3为图1中的凸轮运动的轨迹图(含最高点、过渡点、最低点、两件凸轮的同步初始点)。
具体实施方式
参照图1、图2可知,本发明应用于水钻磨抛机的双行程式磨抛机构,包括机架1、磨抛组件2(为公知技术),该磨抛组件2通过导轨3斜向装在机架1上,在所述机架1上、并在磨抛组件2的两下部处通过凸轮顶轴承4装有凸轮5(共两件),在该凸轮之间内通过膨胀套6(共两件,使两件凸轮能达到同步旋转)而套有凸轮轴7,所述凸轮轴7的一端通过中间传动组件8与动力源9(为液压式电机)相连。所述凸轮轴7的另一端上装有凸轮光电组件10,该凸轮光电组件能感应着凸轮的运动。
其中,所述中间传动组件8为相互啮合的与动力源9相连的旋转齿轮、与凸轮轴7相连的凸轮齿轮;所述动力源9为液压式电机,其装在机架1上。所述磨抛组件2的两下部通过凸轮顶轴承4与凸轮5相接,该凸轮顶轴承4顶在凸轮5的边缘上滚动。所述凸轮轴7的两端上还装有凸轮轴承座14(含轴承)。所述凸轮5的内部具有凹凸槽,所述凸轮光电组件10分为最高点光电件11、过渡点光电件12、最低点光电件13,其分别对应感应凸轮运动时的最高点、过渡点、最低点(如图3所示),上述每点都有一段等距台阶。在所述机架1上、并与磨抛组件2的中部相连处装有辅助弹簧组件15,此辅助弹簧组件的弹力可调节而减轻磨抛组件对凸轮的作用力。
如附图所示,本发明的工作原理是:动力源液压式电机工作而通过中间传动组件带动凸轮轴旋转,再带动两凸轮同步转动而使凸轮顶轴承4顶在凸轮5的边缘上滚动,最终推动磨抛组件在导轨上作斜边直线运动。凸轮转动时,从最初的同步初始点依次到达最低点、过渡点再转到最高点,其运动轨迹为:1、最低点→最高点;2、最高点→过渡点、过渡点→最高点运动七次;3、最高点→最低点。其不仅运动精度要求高而且速度快。每次重复到最高点的误差为±0.02mm。凸轮运动的最大角度为170度。当凸轮转到上述某点时,磨抛组件到达一个高度、一个角度时,则凸轮光电组件发出相应信号,动力源停止工作,由磨抛组件对物件进行磨抛。随后磨抛组件再到达另一个高度、另一个角度而接着对物件进行磨抛。所述磨抛组件与水平线所成的夹角约为48度,以最有利于磨抛加工。
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