[实用新型]一种酞菁化合物合成装置

权利要求书

1.一种酞菁化合物合成装置，其特征在于包括第一反应釜、第一冷凝器、第二反应釜和第二冷凝器；

第一反应釜的腔体通过第一物料输送管与第二反应釜的腔体连通；

第一冷凝器包括第一冷凝器壳体，第一冷凝器壳体中设有第一上隔板和第一下隔板，第一上隔板和第一下隔板将第一冷凝器壳体分隔成自上至下排列的第一上气室、第一冷凝室和第一储液室，第一冷凝室中设有多个第一热交换管，第一热交换管下端与第一储液室的腔体连通，第一热交换管上端与第一上气室的腔体连通，第一冷凝室的侧壁上设有第一冷却液入口和第一冷却液出口，第一冷却液入口和第一冷却液出口均与第一冷凝室的腔体连通；第一上气室上设有第一进气口；第一储液室的侧壁上设有第一出气口和第一溶剂回流口，第一出气口处于第一溶剂回流口上方，第一储液室底部设有第一排水口，第一排水口处设有第一排水开关阀；第一反应釜的腔体通过第一混合气体输送管与第一进气口连通；第一溶剂回流口通过第一溶剂回流管与第一反应釜的腔体连通；

第二冷凝器包括第二冷凝器壳体，第二冷凝器壳体中设有第二上隔板和第二下隔板，第二上隔板和第二下隔板将第二冷凝器壳体分隔成自上至下排列的第二上气室、第二冷凝室和第二储液室，第二冷凝室中设有多个第二热交换管，第二热交换管下端与第二储液室的腔体连通，第二热交换管上端与第二上气室的腔体连通，第二冷凝室的侧壁上设有第二冷却液入口和第二冷却液出口，第二冷却液入口和第二冷却液出口均与第二冷凝室的腔体连通；第二上气室上设有第二进气口；第二储液室的侧壁上设有第二出气口和第二溶剂回流口，第二出气口处于第二溶剂回流口上方，第二储液室底部设有第二排水口，第二排水口处设有第二排水开关阀；第二反应釜的腔体通过第二混合气体输送管与第二进气口连通，第二溶剂回流口通过第二溶剂回流管与第二反应釜的腔体连通，第二出气口通过第三混合气体输送管与第一反应釜的腔体连通。

2.根据权利要求1所述的酞菁化合物合成装置，其特征是：所述第一出气口上连接有排气管，排气管上设有压力控制阀。

3.根据权利要求1或2所述的酞菁化合物合成装置，其特征是：所述第一反应釜上设有第一加热装置和第一搅拌装置；第二反应釜上设有第二加热装置和第二搅拌装置。

4.根据权利要求1或2所述的酞菁化合物合成装置，其特征是：所述第一溶剂回流管上具有第一U形储液管；第一U形储液管包括第一竖直进液管段、第一水平管段和第一竖直出液管段，第一竖直进液管段下端连接第一水平管段前端，第一水平管段后端连接第一竖直出液管段下端。

5.根据权利要求1或2所述的酞菁化合物合成装置，其特征是：所述第二溶剂回流管上具有第二U形储液管；第二U形储液管包括第二竖直进液管段、第二水平管段和第二竖直出液管段，第二竖直进液管段下端连接第二水平管段前端，第二水平管段后端连接第二竖直出液管段下端。

6.根据权利要求1或2所述的酞菁化合物合成装置，其特征是：所述酞菁化合物合成装置还包括真空干燥装置，真空干燥装置包括第三反应釜、第三冷凝器、第一溶剂回收罐和真空泵；第二反应釜的腔体通过第二物料输送管与第三反应釜的腔体连通，第三反应釜上设有第三加热装置；第三冷凝器包括第三冷凝器壳体，第三冷凝器壳体中设有第三上隔板和第三下隔板，第三上隔板和第三下隔板将第三冷凝器壳体分隔成自上至下排列的第三上气室、第三冷凝室和第三下气室，第三冷凝室中设有多个第三热交换管，第三热交换管下端与第三下气室的腔体连通，第三热交换管上端与第三上气室的腔体连通，第三冷凝室的侧壁上设有第三冷却液入口和第三冷却液出口，第三冷却液入口和第三冷却液出口均与第三冷凝室的腔体连通；第三反应釜的腔体与第三下气室的腔体连通，第三上气室的腔体与真空泵连通；第一溶剂回收罐设于第三冷凝器下方，并且第三下气室的腔体与第一溶剂回收罐的腔体连通。

7.根据权利要求6所述的酞菁化合物合成装置，其特征是：所述第二物料输送管上设有第二输料开关阀。