[实用新型]研磨台及研磨装置有效
| 申请号： | 201320804356.1 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN203622166U | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 唐强;洪中山 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨台，其特征在于，包括圆状的内平台和环状的外平台、内驱动机构、外驱动机构以及升降机构，所述外平台设环绕所述内平台设置，所述内驱动机构驱动所述内平台转动，所述外驱动机构驱动所述外平台转动，所述升降机构能够驱动所述内平台或者外平台上下移动。
2.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述升降机构包括升降马达、驱动杆、丝杠以及设置于所述内平台或者外平台的螺纹孔，所述升降马达经所述驱动杆与所述丝杠连接，所述丝杠远离所述驱动杆的一端与所述内平台或者外平台的螺纹孔相匹配。
3.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述内平台和外平台之间的间隙小于1毫米。
4.根据权利要求3所述的研磨台，其特征在于，所述内平台和外平台之间的间隙是0.2～0.5毫米。
5.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述内平台或者外平台之间的高度差为2-3mils。
6.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述内平台高于所述外平台的高度。
7.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述内平台低于所述外平台的高度。
8.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述内平台和所述外平台相对的表面上设有保护膜。
9.根据权利要求1所述的研磨台，其特征在于，所述研磨垫和所述研磨台之间还设有缓冲层。
10.一种研磨装置，包括研磨头、研磨垫整理器、研磨台与研磨垫，所述研磨垫铺设于所述研磨台上，所述研磨头与所述研磨垫整理器分别设置于所述研磨垫上，其特征在于，所述研磨台采用如权利要求1～9中任意一项所述的研磨台。
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