[实用新型]带有分布布拉格反射器的三结太阳能电池有效
申请号: | 201320813497.X | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN203721752U | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 王晓晖;宋京;丁国建;张荣勤;罗惠英 | 申请(专利权)人: | 天津中环新光科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/054 | 分类号: | H01L31/054;H01L31/078 |
代理公司: | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人: | 高凤荣 |
地址: | 300385 天津市西*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 分布 布拉格 反射 太阳能电池 | ||
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池,尤其涉及一种带有分布布拉格反射器的三结太阳能电池。
背景技术
太阳能电池作为一种清洁无污染的能源,在矿物质燃料(石油、煤炭等)大量消耗造成环境日益恶化的今天,越来越受到重视。
目前,在太阳能电池的大规模推广应中,硅材料占据了绝对优势。但是,以砷化镓(GaAs)、磷化铟镓(InGaP)为代表的III-V族化合物半导体太阳能电池由于自身的优点,也越来越受到重视。为此,在几十年的时间内,以砷化镓(GaAs)、磷化铟镓(InGaP)基材料为代表的第二代化合物半导体太阳能电池的研究迅猛发展,并且,与锗(Ge)材料相结合,制备成了高效率多结太阳能电池,已经成功地应用到地面聚光太阳能电站、空间航天器等领域。
目前,三结太阳能电池的光电转换效率在1个太阳情况下,多为31-34%之间,500倍聚光条件下,能达到或者超过40%。传统的磷化铟镓(InGaP)/砷化铟镓/锗(Ge)三结太阳能电池光电转换效率的提高,主要依赖生长技术的改进,晶体质量的提高,以及芯片制备工艺的改善来实现的。虽然,光电转换效率仍然在进步,但受限于材料制备的工艺方法以及原材料纯度等原因,其效率的提高终究有个极限。所以,如何提高磷化铟镓(InGaP)/砷化铟镓/锗(Ge)三结太阳能电池的内量子效率,将入射光最大可能地转换为光生电流,是提高多结太阳能电池光电转换效率的关键之所在。
通常情况下,三结太阳能电池自下而上依次由锗(Ge)底电池、第一隧道结、砷化镓(GaAs)中电池、第二隧道结、磷化铟镓(InGaP)顶电池所组成,在传统的三结太阳能电池的基区,受限于载流子的扩散长度,为了使光生载流子尽可能的转变成光生电流,基区通常要做到很厚,才能有效吸收进而提供电流。譬如,传统的硅太阳能电池,其吸收区通常要做到百微米量级,三结太阳能电池的砷化铟镓(GaInAs)中电池的基区要做到3微米至3.5微米左右,方能保证光生载流子被有效地吸收从而变成光生电流。如此一来,在生长较厚的基区过程中,消耗了更多的电能、原材料以及更长的生长时间,从而,降低了生产效率,增加了生产成本,同时,带来了更多的可能危害环境的副产品。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于克服现有技术存在的上述缺点,而提供一种带有分布布拉格反射器的三结太阳能电池,其不仅能够有效地将透过砷化铟镓(GaInAs)中电池的P型基区的光反射回去,并再次参与光子到电子的转换过程,从而,达到提高中电池的光电转换效率目的;而且,有效地解决了现有电池总体的光电转换效率不高的问题;同时,有效地缩减了P型砷化铟镓(GaInAs)基区的厚度,降低了生产过程中基区材料的消耗,提高了生产效率,节省了生产成本,降低了副产品的排放。
本实用新型的目的是由以下技术方案实现的:
一种带有分布布拉格反射器的三结太阳能电池,包括:一锗(Ge)底电池、设在锗(Ge)底电池上的第一隧道结、设在第一隧道结上的砷化铟镓(GaInAs)中电池、设在砷化铟镓(GaInAs)中电池上的第二隧道结、设在第二隧道结上的磷化铟镓(InGaP)顶电池,其特征在于:在第一隧道结与砷化铟镓(GaInAs)中电池之间设有一分布布拉格反射器,通过上述层结构连接及切割后,便形成一三结太阳能电池芯片结构。
所述锗(Ge)底电池自下而上依次设有:P型锗(Ge)衬底、扩散形成的N型锗(Ge)层、N型砷化铟镓(GaInAs)成核层及N型磷化铟镓(InGaP)窗口层,其中,P型锗(Ge)衬底的底部设有N型欧姆接触层。
所述第一隧道结自下而上依次设有:设在N型磷化铟镓(InGaP)窗口层上的N型重掺杂砷化镓(GaAs)或磷化铟镓(InGaP)层、设在N型重掺杂砷化镓(GaAs)或磷化铟镓(InGaP)层上的P型重掺杂砷化镓(GaAs)或磷化铟镓(InGaP)层。
所述中电池上设有:分布布拉格反射器,该分布布拉格反射器自下而上依次包含:P型分布布拉格反射器低折射率层、P型分布布拉格反射器高折射率层;P型砷化铟镓(GaInAs)基区层、砷化铟镓(GaInAs)发射层、N型磷化铟镓(InGaP)窗口层。
所述第二隧道结自下而上依次设有:设在N型磷化铟镓(InGaP)窗口层上的N型重掺杂砷化镓(GaAs)或磷化铟镓(InGaP)层、设在N型重掺杂砷化镓GaAs或磷化铟镓(InGaP))层上的P型重掺杂砷化镓(GaAs)或磷化铟镓(InGaP)层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的