[实用新型]用于沉积工艺的防护罩有效
申请号: | 201320816022.6 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN203700513U | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 金庆泰 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 沉积 工艺 防护罩 | ||
技术领域
本实用新型的实施例涉及一种用于沉积工艺的防护罩,所述沉积工艺诸如是在电子器件制造中所使用的化学汽相沉积(CVD)工艺。特别地,本实用新型的实施例涉及一种在有机发光二极管(OLED)显示设备的制造中用于封装工艺的防护罩。
背景技术
OLED在电视屏幕、计算机显示器、移动电话、其他手持设备等的制造中用于显示信息。典型的OLED可包括位于两个电极之间的有机材料层,所述有机材料层都以某种方式沉积在基板上,从而形成具有个别可激励像素的矩阵显示板。所述OLED通常放置在两个玻璃板之间,并且所述玻璃板的边缘是密封的,从而将OLED封装在玻璃板之间。
在这样的显示设备的制造中遇到了许多问题。在一些制造步骤中,将OLED材料封装在一个或多个层中,以阻止湿气损坏OLED材料。在这些工艺期间,一个或多个防护罩用于防护基板中不包括OLED材料的部分。在这些工艺中使用的防护罩必须承受显著的温差。温度极限会导致所述防护罩的热膨胀和收缩,从而可能导致防护罩的破裂、弯折或损坏,这些结果中的任何一个都会导致基板的部分受污染。另外,在这些沉积工艺期间可能存在和/或产生显著的静电放电(ESD)。不受控制的ESD可能会损坏OLED材料。
因此,对在形成OLED显示装置时使用防护罩的新颖和改良的装置和处理方法存在持续需要。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种用于沉积工艺的防护罩和处理套件。在一个实施例中,提供了一种用于沉积工艺的防护罩。所述防护罩包含矩形框架构件,所述矩形框架构件具有两个相对的主要侧面和两个相对的次要侧面,所述主要侧面和次要侧面中的每一个包含第一侧面、第二侧面、第二外部侧壁和内部侧壁,所述第二侧面与所述第一侧面相对并且经由第一外部侧壁连接到所述第一侧面,所述第二外部侧壁设置在所述第一外部侧壁内部并界定从所述第二侧面的平面凸出的上升区域,所述内部侧壁连接所述上升区域和所述第一侧面。所述防护罩还包含矩形条状物,所述矩形条状物设置在所述上升区域的表面上,所述矩形条状物包含第一末端和第二末端,所述第二末端耦合到所述第一末端并且延伸进入所述框架构件的内部区域内。
在另一实施例中,提供了一种用于沉积工艺的防护罩。所述防护罩包含矩形框架构件。所述矩形框架构件具有两个相对的主要侧面和两个相对的次要侧面。所述主要侧面和次要侧面中的每一个包括第一侧面、第二侧面、第二外部侧壁和内部侧壁,所述第二侧面与所述第一侧面相对并且经由第一外部侧壁连接到所述第一侧面,所述第二外部侧壁设置在所述第一外部侧壁内部并界定从所述第二侧面的平面凸出的上升区域,所述内部侧壁连接所述上升区域和所述第一侧面。所述防护罩还包含矩形条状物,所述矩形条状物设置在所述上升区域的表面上,所述矩形条状物经由紧固组件耦合到所述框架构件,所述矩形条状物环绕所述框架构件的内表面。所述矩形条状物包含第一末端和第二末端,所述第二末端耦合到所述第一末端并且延伸经过所述内部侧壁而进入所述框架构件的内部区域内。
在另一实施例中,提供了一种用于沉积腔室的处理套件。所述处理套件包含阴影框架和防护罩。所述防护罩包含矩形框架构件,所述矩形框架构件具有两个相对的主要侧面和两个相对的次要侧面,所述主要侧面和次要侧面中的每一者包含第一侧面、第二侧面、第二外部侧壁和内部侧壁,所述第二侧面与所述第一侧面相对并且经由第一外部侧壁连接到所述第一侧面,所述第二外部侧壁设置在所述第一外部侧壁内部并界定从所述第二侧面的平面凸出的上升区域,所述内部侧壁连接所述上升区域和所述第一侧面。所述防护罩还包含矩形条状物,所述矩形条状物设置在所述上升区域的表面上,所述矩形条状物包含第一末端和第二末端,所述第二末端耦合到所述第一末端并且延伸进入所述框架构件的内部区域内。
附图说明
因此,可详细地理解本实用新型的上述特征结构的方式,即上文简要概述的本实用新型的更具体描述可参照实施例进行,其中一些实施例图示在附图中。然而,应注意,附图仅图示本实用新型的典型实施例,且因此不应被视为本实用新型范围的限制,因为本实用新型可允许其他等效的实施例。
图1是根据一个实施例的CVD装置的示意性剖视图。
图2是图1所示装置的腔室主体中所使用的内部腔室部件的分解等轴视图。
图3A是图1所示的基板支撑件的侧视剖视图,所述基板支撑件上具有在处理位置的基板。
图3B是图3A所示防护罩的框架的一部分的放大剖视图。
图4A是防护罩的一个实施例的等轴视图,所述防护罩可用于图1所示装置中。
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