[实用新型]一种用于干法硅烷工艺的混合器有效
申请号: | 201320825232.1 | 申请日: | 2013-12-16 |
公开(公告)号: | CN203593629U | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 李耀文;耿彩军;刘斌;孙佳杰;张增玉 | 申请(专利权)人: | 李耀文 |
主分类号: | C01B33/04 | 分类号: | C01B33/04;B01F5/00 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 硅烷 工艺 混合器 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种干法硅烷制造设备,具体涉及一种用于干法硅烷工艺的混合器,属于烷制造设备技术领域。
【背景技术】
硅烷气体属于电子特种气体,广泛应用于微电子、多晶硅、非晶硅等行业。目前生产硅烷较成熟的方法有硅合金法和氢化物还原法,均已用于工业生产。而氢化物法流程复杂,设备投资大,成本较高。
目前,硅合金法生产硅烷均采用硅化镁法,其反应式为:Mg2Si+4NH4Cl=2MgCl2+SiH4+4NH3,并以液氨为媒介,其流程简单,设备投资小,但因生产中巨大的液氨耗量,尾渣处理量增加了生产成本。
因此,为避免上述技术问题,确有必要提供一种新型的用于干法硅烷工艺的混合器,以克服现有技术中的所述缺陷。
【实用新型内容】
为解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种结构简单、混合效果好的用于干法硅烷工艺的混合器。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:一种用于干法硅烷工艺的混合器,其包括混合器本体以及底座;其中,于所述混合器本体内设有一混合腔体;于所述混合器本体的顶部中央设有一硅化镁浆液入口,于所述混合器本体的顶部四周均布有四个氯化铵溶液入口;所述硅化镁浆液入口、氯化铵溶液入口分别和混合腔体连通;所述底座通过法兰安装于混合器本体的底部,其上设有一混合物出口。
本实用新型的用于干法硅烷工艺的混合器进一步设置为:于所述混合腔体内设有一层耐磨内衬层,该耐磨内衬层为碳化硅或氮化硅材质的耐磨内衬层。
本实用新型的用于干法硅烷工艺的混合器进一步设置为:所述氯化铵溶液入口向混合器本体的中心轴线倾斜;所述硅化镁浆液入口、混合物出口沿混合器本体的中心轴线延伸。
本实用新型的用于干法硅烷工艺的混合器还设置为:所述混合物出口呈向下扩散的喇叭状结构。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:本实用新型的用于干法硅烷工艺的混合器利用高流速和不同的进料角度将反应物混合均匀;耐磨内衬层延长了使用寿命;利用向下扩散的混合物出口使液氨闪蒸,缩短了反应时间,减少了作为溶剂液氨的用量,降低了反应后尾渣的处理量,从而降低了成本。
【附图说明】
图1是本实用新型的用于干法硅烷工艺的混合器的剖视图。
图2是本实用新型的用于干法硅烷工艺的混合器的俯视图。
【具体实施方式】
请参阅说明书附图1和附图2所示,本实用新型为一种用于干法硅烷工艺的混合器,其安装在硅烷发生器之前,由混合器本体1以及底座2两部分装配而成。
其中,于所述混合器本体1内设有一混合腔体3,用于将氯化铵溶液和硅化镁浆液混合。于所述混合器本体1的顶部中央设有一硅化镁浆液入口4,于所述混合器本体1的顶部四周均布有四个氯化铵溶液入口5;所述硅化镁浆液入口4、氯化铵溶液入口5分别和混合腔体3连通。
于所述混合腔体3内设有一层耐磨内衬层6,该耐磨内衬层6为碳化硅或氮化硅材质的耐磨内衬层6,从而能够延长该混合器的使用寿命。
所述底座2通过法兰7安装于混合器本体1的底部,从而便于拆卸便于清理。于所述底座2上设有一混合物出口8。该混合物出口8呈向下扩散的喇叭状结构,从而利于物料的分散和液氨的蒸发。于所述混合物出口8内亦设有一层耐磨内衬层6。
进一步的,所述氯化铵溶液入口3向混合器本体1的中心轴线9倾斜,使氯化铵溶液对硅化镁浆液有冲刷作用。所述硅化镁浆液入口4、混合物出口8沿混合器本体1的中心轴线9延伸,从而能防止硅化镁堵塞,以及便于出料。
以上的具体实施方式仅为本创作的较佳实施例,并不用以限制本创作,凡在本创作的精神及原则之内所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本创作的保护范围之内。
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