[实用新型]一种胶囊充填机的充填回转控粉结构有效

专利信息
申请号: 201320825616.3 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN203663103U 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 柯潇;蔡忠伟 申请(专利权)人: 成都康弘药业集团股份有限公司
主分类号: A61J3/07 分类号: A61J3/07
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610036 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 胶囊 充填 回转 结构
【权利要求书】:

1.一种胶囊充填机的充填回转控粉结构,其包括计量盘(1)和铜环(2),所述计量盘(1)周边上设置有均匀排列的药粉或药颗粒输灌孔(3),输灌孔(3)下端与计量盘(1)底部的铜环(2)密封配合,所述铜环(2)上有一缺口,所述计量盘(1)上与铜环(2)接触的面上均匀间隔地设置有上刻槽(7),上刻槽(7)位于输灌孔(3)的外侧圆周;所述铜环(2)上与计量盘(1)接触的面设置有下刻槽(9),下刻槽(9)所在圆周与计量盘(1)上的上刻槽(7)所在圆周位置相对应,且计量盘(1)上的上刻槽(7)和铜环(2)上的下刻槽(9)在空间上相互交叉形成向内的剪切力。

2.根据权利要求1所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上的上刻槽(7)或铜环(2)上的下刻槽(9)的间距为5-20mm。

3.根据权利要求2所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上的上刻槽(7)或铜环(2)上的下刻槽(9)的间距为10mm。

4.根据权利要求1所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上的上刻槽(7)或铜环(2)上的下刻槽(9)的深度为1-5mm。

5.根据权利要求4所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上的上刻槽(7)或铜环(2)上的下刻槽(9)的深度为2mm。

6.根据权利要求1所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上的上刻槽(7)或铜环(2)上的下刻槽9的宽度为2-5mm。

7.根据权利要求6所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上的上刻槽(7)或铜环(2)上的下刻槽(9)的宽度为2mm。

8.根据权利要求1-7所述的充填回转控粉结构,其特征在于所述计量盘(1)上与铜环(2)接触的面还可设置一个上刻槽连接圆槽(8),上刻槽连接圆槽(8)位于输灌孔(3)和上刻槽(7)之间,且将计量盘(1)上的上刻槽(7)串联起来;所述铜环(2)上与计量盘(1)接触的面设置一个下刻槽连接圆槽(10),下刻槽连接圆槽(10)将铜环(2)上的下刻槽(9)串联起来,且与计量盘(1)上的上刻槽连接圆槽(8)位置相对应,当设备运转时计量盘(1)上的上刻槽连接圆槽(8)和铜环(2)上的下刻槽连接圆槽(10)可形成一个收纳药粉或药颗粒的环形空腔。

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