[实用新型]一种涂胶显影机有效
| 申请号： | 201320869717.0 | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN203643740U | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 岳力挽;邢滨 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 涂胶 显影 | ||
1.一种涂胶显影机，其特征在于，所述涂胶显影机至少包含：
涂胶单元，所述涂胶单元包括呈2×2的阵列分布、用于放置晶圆的托盘；
位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；
位于相邻所述涂胶单元之间、用于清洗光刻胶喷嘴的溶剂槽；
位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；
以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上、用于传送晶圆的机械手臂。
2.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于：所述光刻胶喷嘴的数量为至少一个。
3.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于：所述光刻胶喷嘴固定在主轴上，在所述主轴的控制下进行0～360度旋转，依次对放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。
4.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于：所述光刻胶喷嘴在主轴的控制下升降移动。
5.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于：所述光刻胶喷嘴的尾部设置有用于保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。
6.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于：所述光刻胶喷嘴的数量为四个。
7.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于：所述四个光刻胶喷嘴固定在主轴上，在所述主轴的控制下进行0～360度旋转，同时为四个放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。
8.根据权利要求7所述的涂胶显影机，其特征在于：所述四个光刻胶喷嘴旋转的角度为45度至90度。
9.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于：所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下左右移动用于对晶圆上不同区域喷涂不同种类的光刻胶。
10.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于：所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下升降移动。
11.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于：所述四个光刻胶喷嘴尾部都设置有左右自由移动的、用以保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。
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