[实用新型]一种涂胶显影机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体工艺设备技术领域，特别是涉及一种涂胶显影机。

背景技术

涂胶显影机（Track）是制造半导体的常用设备，一般用于光刻胶涂布及显影等工艺。涂布光刻胶是涂胶显影机在光刻工艺中必要的一步，光刻胶涂布的过程一般包括：将晶圆安置于涂胶显影机上，由涂胶显影机的光刻胶喷嘴向晶圆表面喷涂上光刻胶。

在设计涂胶显影机的时候，追求的目标在于涂布光刻胶控制膜厚性能的同时，尽可能的提高产量，以及避免光刻胶的浪费。现有技术中涂胶显影机的设计如图1所示，四个涂胶单元11与对应的加热/冷却盘12平行地纵向分布于机械手臂13的运行轨道14两侧，为较少光刻胶损耗，设计一个光刻胶喷嘴15为涂胶单元11喷涂光刻胶。在工作的时候，光刻胶喷嘴15沿直线轨道16移动，依次为第一涂胶单元111、第二涂胶单元112、第三涂胶单元113和第四涂胶单元114内托盘17上的晶圆喷涂光刻胶，而后直接返回第一涂胶单元111位置，重复上述动作。

由于在光刻胶喷嘴15为晶圆涂布好光刻胶后，机械手臂13会及时将涂布好光刻胶的晶圆传送至加热/冷却盘12，并在对应的涂胶单元11的托盘17上放好新的需要涂布光刻胶的晶圆，因此，在光刻胶喷嘴15移动回第一涂胶单元111的时候，第一涂胶单元111已经闲置了一段时间，这就浪费了涂布时间，使得机器处于空转状态，造成生产成本的浪费。同时，由于使用一条机械手臂进行晶圆传送，一旦机械手臂出现故障，就会导致整个涂胶显影机机台停产，严重影响了生产量。

鉴于此，有必要设计一种新的结构以解决上述技术问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影机，用于解决现有技术中使用一个光刻胶喷嘴直线往返为每个涂布单元进行光刻胶涂布时，由于光刻胶喷嘴回程为空载，而导致的机器处于空转状态，浪费涂布时间，降低生产量，浪费生产成本的问题，以及由于使用一条机械手臂进行传送，一旦机械手臂出现故障，就会导致整个涂胶显影机机台停产，进而严重影响生产量的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种涂胶显影机，所述涂胶显影机至少包括：

涂胶单元，所述涂胶单元包括呈2×2的阵列分布、用于放置晶圆的托盘；

位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；

位于相邻所述涂胶单元之间、用于清洗光刻胶喷嘴的溶剂槽；

位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；

以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上、用于传送晶圆的机械手臂。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴的数量为至少一个。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴固定在一个主轴上，在所述主轴的控制下进行0～360度旋转，依次对放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴在主轴的控制下升降移动。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴的尾部设置有用于保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴的数量为四个。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴固定在主轴上，在所述主轴的控制下进行0～360度旋转，同时为四个放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴（25）旋转的角度为45度至90度。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下左右移动用于对晶圆上不同区域喷涂不同种类的光刻胶。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下可以进行上下升降移动。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴尾部都设置有左右自由移动的、用以保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。