[实用新型]平板式PECVD设备及其气路装置有效
申请号: | 201320890566.7 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN203639548U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 范志东;程立威;张小盼;赵学玲 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 pecvd 设备 及其 装置 | ||
1.一种平板式PECVD气路装置,其特征在于,包括:
供气管道(10),所述供气管道(10)上设置有多个特气气孔(11);
多个磁性接头(20),设置在所述供气管道(10)上并与多个所述特气气孔(11)一一对应地连接。
2.根据权利要求1所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,还包括连接管道(30),所述连接管道(30)连接在气源和所述供气管道(10)之间。
3.根据权利要求2所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,所述连接管道(30)包括总管道(31)和与所述总管道(31)连接的多根支流管道(32),所述总管道(31)与所述气源连接,多根所述支流管道(32)均与所述供气管道(10)连接。
4.根据权利要求3所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,还包括流量计(40),所述流量计(40)设置在所述总管道(31)上。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,所述供气管道(10)为磁性管道。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,多个所述特气气孔(11)沿所述供气管道(10)的长度方向均匀设置,且各所述特气气孔(11)的出气方向朝向平板式PECVD设备的工艺腔。
7.根据权利要求6所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,多个所述磁性接头(20)一一对应地设置在多个所述特气气孔(11)的靠近所述工艺腔的一侧。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的平板式PECVD气路装置,其特征在于,多个所述磁性接头(20)一一对应地嵌设在所述特气气孔(11)内。
9.一种平板式PECVD设备,包括平板式PECVD气路装置,其特征在于,所述平板式PECVD气路装置为权利要求1至8中任一项所述的平板式PECVD气路装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英利能源(中国)有限公司,未经英利能源(中国)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320890566.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于收集电解氯化钠过程中金属钠的仪器
- 下一篇:一种飞行模拟用喷雾装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的