[发明专利]用于带状基底的多层涂层装置以及带状基底真空涂层设备

权利要求书

1.一种用于对带状基底(5)进行表面涂层的多层涂层装置，所述多层涂层装置包括具有圆柱形的周侧面(12)的冷却辊(1)以及在周侧面(12)的包围超过180°的部分圆周上分布的隔间(21)的系统，冷却辊用于围绕周侧面(12)的包围超过180°的部分圆周冷却地引导带状基底(5)，隔间分别具有至少一个在其中布置的处理装置(4)，其中，隔间(21)的系统划分为两个由分隔平面(3)分隔开的部分系统(2)，每个部分系统(2)的隔间(21)相对彼此位置固定地布置，并且每个部分系统(2)包围冷却辊(1)的周侧面(12)的不超过180°的部分圆周，其特征在于，两个部分系统(2)能在与分隔平面(3)垂直的方向上离开冷却辊(1)地移动。

2.根据权利要求1所述的多层涂层装置，其特征在于，处理装置(4)在冷却辊(1)的径向方向上位置固定地布置。

3.根据权利要求1所述的多层涂层装置，其特征在于，处理装置(4)相对包围该处理装置(4)的隔间(21)的区段位置固定地布置。

4.根据上述权利要求中任一项所述的多层涂层装置，其特征在于，两个部分系统(2)能在冷却辊(1)的轴向方向(11)上移动。

5.根据上述权利要求中任一项所述的多层涂层装置，其特征在于，所述两个部分系统(2)能同步地移动。

6.根据权利1至4中任一项所述的多层涂层装置，其特征在于，两个部分系统(2)能彼此独立地移动。

7.根据上述权利要求中任一项所述的多层涂层装置，其特征在于，至少一个处理装置(4)布置在分隔平面(3)的区域中。

8.根据上述权利要求7所述的多层涂层装置，其特征在于，包围在分隔平面(3)的区域中的处理装置(4)的隔间(21)能分开地构造。

9.根据上述权利要求中任一项所述的多层涂层装置，其特征在于，所述两个部分系统(2)彼此对称地设计。

10.根据上述权利要求中任一项所述的多层涂层装置，其特征在于，所述两个部分系统(2)布置在共同的支撑和引导装置上，所述支撑和引导装置能实现部分系统(2)的与分隔平面(3)垂直的以及在冷却辊(1)的轴向(11)上的移动。

11.一种带状基底真空涂层设备，所述带状基底真空涂层设备包括由室壁构成的过程室以及在所述过程室中包括根据权利要求1至10中任一项所述的多层涂层装置。

12.根据上述权利要求11所述的带状基底真空涂层设备，其特征在于，在部分系统(2)的区域中的至少一个室壁具有能真空密封地封闭的开口，穿过所述开口，部分系统(2)能从过程室中运动出来或运动进入过程室中。

13.根据上述权利要求11或12所述的带状基底真空涂层设备，其特征在于，部分系统(2)在过程室之外能与分隔平面(3)垂直地进一步移动，以增大它们的间距。