[发明专利]用于带状基底的多层涂层装置以及带状基底真空涂层设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种根据权利要求1的前序部分的用于对带状基底进行表面涂层的多层涂层装置，尤其是多层磁控溅射涂层装置以及一种根据权利要求11的前序部分的带状基底真空涂层设备。

背景技术

公知的用于对过程室中的带状材料进行涂层的真空涂层设备在第一能抽真空的卷轴室内包括具有待涂层的带状材料的置入的放卷机的放卷装置，该放卷机布置在第一辊座中，并且在第二能抽真空的卷轴室内包括具有已涂层的材料的能拆除的收卷机的收卷装置，该收卷机布置在第二辊座中。在卷轴室之间，待涂层的带状材料穿过至少一个能抽真空的过程室，其中，在每个过程室内布置有具有用于带状材料以及冷却辊的引导装置的过程辊座，至少一个磁控溅射源位于其表面之上。

在其他公知的带涂层设备中，放卷机和收卷机布置在过程室内部，具有如下优点：不需要单独的卷轴室，但是也具有如下缺点：在不对整个过程室通风的情况下不能更换卷轴。这种设备类型也可以通过其中所描述的发明有利地得以改善。

由DE19735603C1公知了一种用于带状材料的真空涂层设备，其具有两个过程室。在每个过程室中存在有辊座，在该辊座中支承有转向滚子、带张力测量辊以及冷却辊。每个辊座能水平和竖直调节地实施，以便能彼此实现调整并由此可以避免带状材料形成褶皱。过程室以及卷轴室通过带状阀门以真空方式彼此分隔开，以便能够以不同的气体以及不同的压力工作。待涂层的带状材料被运输穿过带状阀门。

放卷机和收卷机位于卷轴室中。待涂层的材料在第一卷轴室中由放卷机展开并输送给涂层过程，并且最后在第二卷轴室中收卷。

为了给带状材料涂层可以使用例如磁控溅射源，但是也可以使用其他涂层源(像例如具有配气管的热汽化器)或离子源，它们能相对各自的冷却辊调节地布置，从而使得它们的中间纵向线能与它们附属的冷却辊的中轴线轴线平行地调整。依赖于所使用的涂层源可以规定，一个或多个涂层源分别布置在一个隔间中，该隔间适用于各自的涂层源相对过程室的的气体分离。

除了提到的涂层源，其他附加的所需过程技术也可以布置在冷却辊的外围中。关于过程技术的装配可以区分为两组。因此，如下过程技术是公知的，该过程技术可以在封闭过程室的室壁之前布置在过程室中。另一组过程技术可以通过如下方式在封闭过程室的室壁之后或之时才布置在过程室中，这个过程技术能通过室壁中的开口引入过程室中，其中，这个过程技术在一侧根据悬臂支架(Cantilever)的类型保持在室壁本身上。

由DE10157186C1公知了一种本文开头提到类型的真空涂层设备，其中，用于放卷机的辊座紧固在第一卷轴室中的第一紧固点上，过程辊座紧固在过程室中的第二和第三紧固点上，而用于收卷机的辊座紧固在第二卷轴室中的第四紧固点上。在设备的运行状态下，卷曲室与过程室之间的压力差最大为50Pa。

在实践中已经表明，通常多个沿着冷却辊的表面的外围以很小的间隙布置的磁控溅射源或/和隔间的布置的纯轴线平行的移动在该布置与冷却辊之间没有接触的情况下很难实现。

因此，过去也使用一种尝试克服这个问题的具有冷却辊以及沿着冷却辊的外围的涂层源和隔间的布置的多层涂层装置。为此，这些布置被划分为多个，多数情况下为三个隔间部分系统，它们分别包括冷却辊的不超过180°的部分圆周并且能彼此枢转地连接。

在具有水平定向的轴线的冷却辊中，处理装置，像例如涂层源以及围绕限定处理装置的隔间的空间布置在2点钟、4点钟、6点钟、8点钟以及10点钟位置上，其中，与表盘类似六点钟位置相应于冷却辊的外围的最低点。

在此，在涂层运行中由于必要的压力分离，隔间与冷却辊的物理上必需的距离为几毫米，例如2mm至3mm。

在对多层涂层装置的例如每周的维护(例如，更换溅射装置环境、靶等等)中，处理装置以及隔间必须从过程环境，即从冷却辊移开。

在此，除了耗费的结构外，该过程是非常繁琐且耗时的。在此，首先必须从过程室中不依赖于隔间的部分系统拆除在一侧支承在过程室的室壁上的处理装置，像例如涂层源。紧接着，布置在2点钟和10点钟位置上的隔间部分系统可以向外枢转，并且最后整个隔间布置借助升降台或者类似机构被竖直向下运动。

在这个过程之后才可以使整个隔间布置水平地从过程室中运动出来。

发明内容

因此，本发明的任务在于，简化所提到类型的多层涂层装置的维护过程以及带状基底真空涂层设备结构上的构造。

该任务通过具有权利要求1的特征的多层涂层装置以及通过具有权利要求11的特征的带状基底真空涂层设备来解决。在从属权利要求中描述了优选的设计方案和改进方案。