[发明专利]拨液性树脂片的制造方法、导光板的制造方法、拨液性树脂片的制造装置和导光板的制造系统有效
申请号: | 201380007102.X | 申请日: | 2013-01-31 |
公开(公告)号: | CN104136509A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 西野祥太郎;野田基央;嶋谷秀谕;泽田康志 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;爱沃特株式会社 |
主分类号: | C08J7/00 | 分类号: | C08J7/00;G02B6/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵曦;金世煜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 拨液性 树脂 制造 方法 导光板 装置 系统 | ||
技术领域
本发明涉及拨液性树脂片的制造方法、导光板的制造方法、拨液性树脂片的制造装置和导光板的制造系统。
背景技术
作为对给定面实施拨液处理的技术,已知有利用大气压等离子体的方法。例如,在专利文献1中公开了一种在含有全氟化碳(PFC:Perfluorocarbon)和氦的环境气体中生成大气压等离子体、对玻璃表面进行拨液处理的技术。在该专利文献1记载的技术中,为了生成大气压等离子体,供给给电极的电力是电力密度在30W/cm2~100W/cm2左右的电力。
专利文献:
专利文献1:日本特开2006-350179号公报
发明内容
若要将专利文献1中记载的条件应用到树脂片的拨液处理中,则树脂片容易损伤。
因此,本发明旨在提供一种在利用大气压等离子体实施拨液处理的同时能避免损伤的拨液性树脂片的制造方法、导光板的制造方法、拨液性树脂片、拨液处理装置和导光板的制造系统。
作为本发明一方面的拨液性树脂片的制造方法是一种制造具有实施过拨液处理的面的拨液性树脂片的方法,具有通过在相向配置的一对电极间使大气压等离子体在环境气体中生成、对配置在一对电极间的树脂片的主面用大气压等离子体实施拨液处理的工序。向上述电极供给与1W/cm2~25W/cm2的电力密度对应的电力。此外,上述环境气体包含氩和全氟化碳。
在该方法中,向上述电极供给与1W/cm2~25W/cm2的电力密度对应的电力,并在含有氩和全氟化碳的环境气体这样的条件下生成大气压等离子体。其结果,即使对树脂片实施拨液处理,树脂片也不易损伤。
在一实施方式中,实施拨液处理的工序可具有如下工序:边向第1的一对电极间搬运树脂片,边用大气压等离子体对树脂片的主面实施第一拨液处理的工序;边将树脂片搬运至在树脂片的搬运方向上的第1的一对电极的下游侧配置的第2的一对电极之间、边用大气压等离子体对主面实施第二拨液处理的工序。在该实施方式中,在树脂片的搬运方向上,从第1的一对电极与第2的一对电极之间向第1的一对电极间和第2的一对电极间供给上述环境气体。
这种情况下,在对主面实施第一拨液处理后对主面实施第二拨液处理,因此,能赋予主面所希望的拨液性。另外,由于从第1的一对电极与第2的一对电极之间向第1的一对电极间和第2的一对电极间供给环境气体,因此,能均匀地对主面实施拨液处理。
在将环境气体在树脂片的搬运方向上从第1的一对电极与第2的一对电极之间供给至第1的一对电极间和第2的一对电极间的实施方式中,在实施拨液处理的工序中,可边将多个树脂片依次搬运至第1的一对电极间和第2的一对电极间,边对多个树脂片的各自的主面实施第一拨液处理和第二拨液处理。
即使是在边搬运多个树脂片边对主面进行拨液处理的情况下,也能通过边从第1的一对电极与第2的一对电极之间向第1的一对电极间和第2的一对电极间供给环境气体,边对多个树脂片的各自的主面实施第一拨液处理和第二拨液处理,均匀地实施主面的拨液处理。
上述全氟化碳的例子可以是四氟化碳。
本发明的另一方面为导光板的制造方法。导光板的制造方法包括如下工序:用作为本发明一方面的上述方法制造拨液性树脂片的工序;通过使液体油墨固化,在拨液性树脂片的实施过拨液处理的主面上形成将在拨液性树脂片内传播的光进行反射的多个反射点的工序。
在该方法中,在用作为本发明一方面的上述方法制得的拨液性树脂片的拨液处理过的主面上利用液体油墨形成反射点。由于拨液处理时树脂片不易损伤,因此导光板的制造成品率提高。通过在实施过拨液处理的面上利用液体油墨形成反射点,能够容易地得到所希望形状的反射点。
在一实施方式中,形成上述反射点的工序可包括用喷墨法将液体油墨滴加在实施过拨液处理的主面上的工序和使油墨固化的工序。通过使滴加在实施过拨液处理的主面上的液体油墨固化,能得到反射点。
在一实施方式中,上述液体油墨可以是紫外线固化型油墨。这种情况下,在使液体油墨固化的工序中,对液体油墨照射紫外线,使液体油墨固化即可。
在一实施方式中,上述反射点的直径可以在20μm以上、120μm以下。
在一实施方式中,在形成上述反射点的工序中,多个反射点中的邻接的二个反射点的间隔可在80μm以上、200μm以下。
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