[发明专利]玻璃制品的制造方法及磁盘的制造方法在审
| 申请号： | 201380008201.X | 申请日： | 2013-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN104093524A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 宫谷克明;田村昌彦;帕里查·提帕阳 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;C09K3/14;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃制品 制造 方法 磁盘 | ||
1.一种玻璃制品的制造方法，包括使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及之后使用加热后的含有硫酸和过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序，所述制造方法中，
该铈基研磨剂为不含LaOF晶体的铈基研磨剂。
2.如权利要求1所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述铈基研磨剂含有镧。
3.如权利要求2所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述铈基研磨剂以La2O3计含有20～40质量％的镧。
4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述铈基研磨剂含有氟。
5.如权利要求4所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述铈基研磨剂中的氟的含量大于1质量％。
6.如权利要求1～5中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述铈基研磨剂含有萤石型结构的CexLa1-xOyF2-y(x为0.5以上且小于1，y为1.7～2)。
7.如权利要求1～6中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述铈基研磨剂的平均粒径为0.5μm以下。
8.如权利要求1～7中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述清洗液中的硫酸的含量为55～80质量％，过氧化氢的含量为1～10质量％，所述清洗液的温度为70～100℃。
9.如权利要求1～8中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，包括：在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃进行研磨的精研磨工序。
10.如权利要求9所述的玻璃制品的制造方法，其中，胶态二氧化硅磨粒的平均粒径为10～50nm。
11.如权利要求9或10所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述含有胶态二氧化硅磨粒的浆料的pH为1～6。
12.如权利要求1～11中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述玻璃制品为玻璃基板。
13.如权利要求12所述的玻璃制品的制造方法，其中，所述玻璃基板为信息记录介质用玻璃基板。
14.一种磁盘的制造方法，其特征在于，通过权利要求1～13中任一项所述的玻璃制品的制造方法来制造磁盘用玻璃基板，并在该磁盘用玻璃基板的主表面上形成磁记录层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社，未经旭硝子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380008201.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：边缘密封的反射镜及其制造方法
- 下一篇：铝合金构件与铜合金构件的面硬钎焊方法
