[发明专利]玻璃制品的制造方法及磁盘的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃制品的制造方法。

背景技术

在磁盘用玻璃基板或光掩模基板等要求高精度的平坦性的玻璃制品的制造方法中，残留在玻璃制品上的异物的除去成为重要的技术问题。作为残留在玻璃制品上的异物，已知由于研磨速率高等理由而适合用于玻璃研磨的铈基研磨剂(以含有氧化铈的稀土金属氧化物为主要成分的研磨剂)容易以异物的形式残留。

例如，在磁盘用玻璃基板的制造工序中，使用含有铈基研磨剂的浆料对从玻璃板切下的玻璃圆板的主表面及端面进行研磨后，为了进一步使主表面平坦化而利用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料进行精研磨(最终研磨)。此时，即使在主表面上残留有铈基研磨剂，也会通过精研磨除去。但认为附着于端面的铈基研磨剂未被除去而残留，在精研磨后的清洗工序中会再次附着到主表面上，从而以异物的形式残留在磁盘用玻璃基板上。

另外，对于光掩模基板而言，也存在与磁盘用玻璃基板同样的问题。对于光掩模基板，作为研磨工序，多数情况下也使用含有铈基研磨剂的浆料进行研磨，然后，为了使主表面进一步平坦化而使用胶态二氧化硅进行研磨。在铈基研磨剂附着于端面的情况下，有可能再次附着到表面上。在光掩模基板的情况下，要求对短波长的紫外线具有高透射率，因附着在表面上的异物而引起的散射大多会成为问题。

基于这样的背景，期望在使用铈基研磨剂的研磨全部结束的阶段中将铈基研磨剂完全除去。

为了应对这样的要求，提出了含有无机酸和抗坏血酸的清洗液(例如，参考专利文献1及2)。该清洗液通过无机酸和抗坏血酸的作用而将铈基研磨剂熔化除去。

另外，还提出了在最终工序的清洗中使用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液的方案(例如参考专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-99847号公报(权利要求书)

专利文献2：日本特开2004-59419号公报(权利要求书)

专利文献3：日本特开2008-90898号公报(权利要求书)

发明内容

发明所要解决的问题

然而，本发明人对上述清洗技术进行了验证，结果确认，在利用含有抗坏血酸及无机酸的清洗液进行的清洗中，尽管能够减少残留在玻璃圆板的端部的铈基研磨剂，但是有时不能完全除去。另外还确认，该清洗液的pH低至1～2，因此，在应用于包含碱性铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板时，有时会引起严重的表面粗糙。

另一方面确认，在最终研磨工序后的清洗中使用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液的情况下，可以几乎完全地除去残留在玻璃基板的端部的铈基研磨剂，但玻璃的碎屑会附着到玻璃表面上，若将该附着物除去，则有时会在玻璃表面产生凹陷而引起严重的表面粗糙。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种玻璃制品的制造方法，其是经过使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及利用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序来制造玻璃制品的方法，该方法能够防止玻璃的表面粗糙。

用于解决问题的手段

本发明人发现，在玻璃的研磨工序中，使用不含LaOF晶体的铈基研磨剂对玻璃进行研磨，之后利用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗，由此能够抑制如上所述的玻璃的表面粗糙，从而完成了本发明。

即，本发明如下所述。

1.一种玻璃制品的制造方法，包括使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及之后使用加热后的含有硫酸和过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序，所述制造方法中，

该铈基研磨剂为不含LaOF晶体的铈基研磨剂。

2.如上述第1项所述的玻璃制品的制造方法，其中，上述铈研磨剂含有镧。

3.如上述第2项所述的玻璃制品的制造方法，其中，上述铈基研磨剂以La₂O₃计含有20～40质量％的镧。

4.如上述第1～3项中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，上述铈基研磨剂含有氟。

5.如上述第4项所述的玻璃制品的制造方法，其中，上述铈基研磨剂中的氟的含量大于1质量％。

6.如上述第1～5项中任一项所述的玻璃制品的制造方法，其中，上述铈基研磨剂含有萤石型结构的Ce_xLa_1-xO_yF_2-y(x为0.5以上且小于1，y为1.7～2)。