[发明专利]含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201380010211.7 | 申请日： | 2013-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN104126026A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 高见英生;荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/65 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含有 氧化物 磁性材料 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种强磁性材料溅射靶，其含有基体相和氧化物相，所述基体相包含钴；或钴、铬；或钴、铂；或钴、铬、铂，所述氧化物相至少包含合计为5摩尔％以上且25摩尔％以下的铬氧化物和Si、Ti中任意一种以上的金属氧化物，其特征在于，含有合计为10重量ppm以上且3000重量ppm以下的Y、Mg、Al中的任意一种以上元素，相对密度为97％以上。
2.如权利要求1所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，以Cr2O3换算含有0.5摩尔％以上且10摩尔％以下的铬氧化物。
3.如权利要求1或2所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，氧化物相的平均颗粒尺寸为3μm2/颗粒以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉坤日矿日石金属株式会社，未经吉坤日矿日石金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380010211.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
