[发明专利]含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201380010823.6 | 申请日： | 2013-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN104395497B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 高见英生;荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/65;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 王海川,穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含有 氧化物 磁性材料 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种强磁性材料溅射靶，其含有包含钴；或者钴、铬；或者钴、铂；或者钴、铬、铂的基体相和至少包含铬氧化物的氧化物相，其特征在于，
含有合计为100重量ppm以上且3000重量ppm以下的Zr、W中的任意一种以上元素，
以Cr2O3换算含有0.5摩尔％以上且10摩尔％以下的铬氧化物，
相对密度为97％以上。
2.如权利要求1所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，氧化物相含有合计为5摩尔％以上且25摩尔％以下的铬氧化物和Ti、Ta中的任意一种以上的金属氧化物。
3.如权利要求1、2中任一项中所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，氧化物相的平均颗粒尺寸为3μm2/颗粒以下。
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