[发明专利]包括高和低光泽度区的其上叠加有物理微观结构的基材有效
申请号: | 201380011227.X | 申请日: | 2013-01-30 |
公开(公告)号: | CN104203555A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | G·M·克拉克;J·T·巴图西亚克 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B32B3/30 | 分类号: | B32B3/30;G02B1/04 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈长会;马慧 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 光泽 叠加 物理 微观 结构 基材 | ||
1.一种聚合物基材,所述聚合物基材包括具有第一主表面的第一主侧面,所述第一主侧面包括:
第一高光泽度区;和
第二低光泽度区,所述第二低光泽度区包括导致所述第二低光泽度区具有的光泽度低于所述第一高光泽度区的光泽度的模塑纹理化表面,
所述第一区和所述第二区以预先确定的图案设置在所述第一主表面上;
并且,
其中所述基材的所述第一主侧面还包括叠加在所述第一高光泽度区上和所述第二低光泽度区上的至少一个物理微观结构。
2.根据权利要求1所述的基材,其中所述第二低光泽度区包括小于约10光泽度单位的85度光泽度。
3.根据权利要求1所述的基材,其中所述第一高光泽度区包括大于约40光泽度单位的85度光泽度。
4.根据权利要求1所述的基材,其中所述第二低光泽度区包括比所述第一高光泽度区的光泽度低至少约10光泽度单位的85度光泽度。
5.根据权利要求1所述的基材,其中所述第一高光泽度区包括小于0.05微米的表面粗糙度Ra。
6.根据权利要求1所述的基材,其中所述第二低光泽度区包括大于0.8微米的表面粗糙度Ra。
7.根据权利要求1所述的基材,其中所述第一高光泽度区在所述基材的所述第一侧面上共同形成第一高光泽度宏观区域,并且其中所述第二低光泽度区在所述基材的所述第一侧面上共同形成第二低光泽度宏观区域;
并且
其中当可见光照射到所述基材的所述第一主侧面上并从所述第一主侧面反射时,所述第一高光泽度宏观区域和所述第二低光泽度宏观区域组合以共同形成能够在视觉上观察到的图案。
8.根据权利要求7所述的基材,其中当可见光照射到所述基材的所述第一主侧面上并从所述第一主侧面反射时,所述第一高光泽度宏观区域和所述第二低光泽度宏观区域组合以共同形成能够观察到的信息标记。
9.根据权利要求8所述的基材,其中所述标记包括徽标。
10.根据权利要求9所述的基材,其中所述基材具有纵向轴线并且其中所述标记包括至少一个具有长轴线的文本串,所述长轴线相对于所述基材的所述纵向轴线以约20至约70度的角度取向。
11.根据权利要求7所述的基材,其中当可见光照射到所述基材的所述第一主侧面上并从所述第一主侧面反射时,所述第一高光泽度宏观区域和所述第二低光泽度宏观区域组合以共同形成能够观察到的装饰性图案。
12.根据权利要求1所述的基材,其中所述基材包括小于约10%的可见光透射率。
13.根据权利要求1所述的基材,其中所述聚合物基材的所述聚合物材料包含至少2重量%的遮光剂。
14.根据权利要求1所述的基材,其中所述聚合物基材的所述聚合物材料包含有效量的至少一种着色剂,使得当可见光照射到所述基材的所述第一主侧面上并从所述第一主侧面反射时,所述基材显示出易于识别的非白色的颜色。
15.根据权利要求1所述的基材,其中所述聚合物基材的所述聚合物材料为半结晶热塑性聚合物。
16.根据权利要求1所述的基材,其中所述基材为带材背衬。
17.根据权利要求16所述的基材,所述基材还包含设置在所述带材背衬的所述第二主侧面上的压敏粘合剂。
18.根据权利要求1所述的基材,其中所述至少一个物理微观结构为微结构化的手撕图案。
19.根据权利要求1所述的基材,其中所述至少一个物理微观结构为微结构化的液体保持图案。
20.根据权利要求1所述的基材,其中所述至少一个物理微观结构包括微结构化的手撕图案和微结构化的液体保持图案,其中所述微结构化的手撕图案和所述微结构化的液体保持图案是共延的且相交的。
21.一种制备聚合物基材的方法,所述聚合物基材具有第一主侧面,所述第一主侧面具有第一高光泽度区并具有第二模塑纹理化低光泽度区且具有叠加在所述第一区和所述第二区上的至少一个物理微观结构,所述方法包括:
使熔融聚合物挤出物的第一主表面与包括所述第一区和所述第二区的阴面以及所述物理微观结构的阴面的第一模具表面接触,使得所述挤出物的所述第一主表面抵靠所述第一模具表面来模塑,从而形成具有第一主侧面的聚合物基材,所述第一主侧面具有第一高光泽度区并具有第二模塑纹理化低光泽度区且具有叠加在所述第一区和所述第二区上的至少一个物理微观结构。
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