[发明专利]包括高和低光泽度区的其上叠加有物理微观结构的基材

说明书

背景技术

其上具有物理微观结构的基材已用于各种用途。

发明内容

本文公开了聚合物基材，所述基材具有第一主侧面，所述第一主侧面包括第一高光泽度区并且还包括具有模塑纹理化表面的第二低光泽度区，所述第一区和所述第二区以预先确定的图案设置在所述第一主表面上；并且其中所述基材的第一主侧面还包括叠加在所述第一高光泽度区上和所述第二低光泽度区上的至少一个物理微观结构。本发明还公开了制备此类聚合物基材的方法。

在以下具体实施方式中，本发明的这些方面和其他方面将显而易见。然而，在任何情况下，都不应将上述发明内容视为是对可受权利要求书保护的主题的限制，无论此主题是在最初提交的专利申请的权利要求书中给出还是在修订的专利申请的权利要求书中给出，或者是在申请过程中给出。

附图说明

图1为示例性基材的一部分的示意性侧视剖视图，所述部分包括第一高光泽度区和第二低光泽度区，并且还包括叠加在所述第一区和所述第二区上的示例性物理微观结构。

图2为示例性基材的一部分的示意性侧视剖视图，所述部分包括第一高光泽度区和第二低光泽度区，并且还包括叠加在所述第一区和所述第二区上的另一示例性物理微观结构。

图3为示例性基材的第一主侧面的俯视平面图，所述第一主侧面包括第一高光泽度区和第二低光泽度区，并且还包括叠加在所述第一区和所述第二区上的示例性物理微观结构。

图4为另一示例性基材的第一主侧面的俯视平面图，所述第一主侧面包括第一高光泽度宏观区域和第二低光泽度宏观区域，并且还包括叠加在所述第一区域和所述第二区域上的示例性物理微观结构。

图5为示例性物理微观结构的透视图，所述物理微观结构包括叠加在第一高光泽度区域和第二低光泽度区域上的手撕图案。

图6为示例性物理微观结构的透视图，所述物理微观结构包括叠加在第一高光泽度区域和第二低光泽度区域上的液体保持图案。

图7为示例性物理微观结构的透视图，所述物理微观结构包括叠加在第一高光泽度区域和第二低光泽度区域上的共延的相交手撕液体保持图案。

图8为用于制备微结构化的带材背衬和带材的示例性方法的图解视图。

在多张图中，类似的参考标号表示类似的元件。一些元件可能以相同或相等的倍数存在；在此类情况下，参考标号可能仅标出一个或多个代表性元件，但应当理解，此类参考标号适用于所有此类相同的元件。除非另外指明，否则本文档中的所有图和附图均未按比例绘制，并且被选择用于示出本发明的不同实施例。具体地讲，除非另外指明，否则仅用示例性术语描述各种部件的尺寸，并且不应从附图推断各种部件的尺寸之间的关系。尽管本发明中可能使用了诸如顶部、底部、上部、下部、下方、上方、正面、背面、向上和向下以及第一和第二的术语，但应当理解，除非另外指明，否则这些术语仅以它们的相对意义使用。术语向外和向内分别指大致远离基材1的内部的方向和朝向基材1的内部的方向。除非另外特别限定，否则诸如相同、相等、均一、恒定等等的术语在应用于可定量性质或属性时意指在+/-5％内。如本文中用作性质或属性的修饰语，除非另外特别限定，否则术语“大致”意指性质或属性可易于由普通技术人员识别，而不需要绝对精确或完全匹配(例如对于可定量特性在+/-520％内)；术语“基本上”意指高度近似(例如对于可定量特性在+/-510％内)，但同样不需要绝对精确或完全匹配。关于光泽度所使用的术语，如高/较高以及低/较低，在下文进行具体定义。

具体实施方式

图1和图2中示出各自包括第一主侧面100和第二主侧面400的示例性基材1的侧剖视透视图，第一主侧面100和第二主侧面400分别包括第一和第二朝向相反的主表面101和401。第一主侧面100的第一主表面101包括高光泽度的第一区110。第一主表面101还包括低光泽度的第二区130。所谓高光泽度和低光泽度具体地是指区130的光泽度低于区110的光泽度。区130可通过包括模塑表面纹理而表现出此较低的光泽度。由此而论，具有模塑表面纹理的区130是指具有特征结构的区域，所述特征结构以将区130的光泽度从平表面所表现出的光泽度降低的方式从平坦表面偏离(沿着基材1的z轴，如图1中所示)，如稍后在本文中详细论述。所谓模塑纹理化表面是指通过模塑基材1或在其模塑期间获得基材1的主表面101的纹理赋予特征结构。因此，模塑纹理化表面可区别于从对现有表面进行处理所获得(例如，从对此类表面进行研磨、消融或物理粗化，或从将纹理赋予材料沉积其上所获得)的纹理化表面。第一区110和第二区130提供有预先确定的图案。