[发明专利]ESD保护半导体器件有效
申请号: | 201380012586.7 | 申请日: | 2013-02-19 |
公开(公告)号: | CN104160509B | 公开(公告)日: | 2017-06-06 |
发明(设计)人: | 沃尔夫冈·赖因普雷希特 | 申请(专利权)人: | ams有限公司 |
主分类号: | H01L29/08 | 分类号: | H01L29/08;H01L29/78 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 康建峰,陈炜 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | esd 保护 半导体器件 | ||
1.一种ESD保护半导体器件,包括:
半导体衬底(1),具有表面(10);
第一导电类型的源区(2)和漏区(3),所述源区(2)和所述漏区(3)布置在所述衬底(1)中,位于或邻近于所述表面(10),并且彼此间隔开距离;
第二导电类型的沟道区(4),所述第二导电类型与所述第一导电类型相反,所述沟道区(4)布置在所述源区(2)和所述漏区(3)之间,以及
栅电极(6),布置在所述沟道区(4)上方,
其特征在于:
所述第一导电类型的衬底阱(7)布置在所述衬底(1)中,并与所述源区(2)间隔开距离,
所述衬底阱(7)与所述漏区(3)邻接,以及
所述源区(2)与所述衬底阱(7)之间的距离大于所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离,
所述ESD保护半导体器件还包括:
所述第二导电类型的本体阱(12),
所述沟道区(4)位于所述本体阱(12)中,以及
所述衬底阱(7)从所述衬底(1)的表面(10)向下延伸最大距离(d1),所述最大距离(d1)大于所述本体阱(12)从所述表面(10)所延伸的最大距离(d2)。
2.一种ESD保护半导体器件,包括:
半导体衬底(1),具有表面(10);
第一导电类型的源区(2)和漏区(3),所述源区(2)和所述漏区(3)布置在所述衬底(1)中,位于或邻近于所述表面(10),并且彼此间隔开距离;
第二导电类型的沟道区(4),所述第二导电类型与所述第一导电类型相反,所述沟道区(4)布置在所述源区(2)和所述漏区(3)之间,以及
栅电极(6),布置在所述沟道区(4)上方,
其特征在于:
所述第一导电类型的衬底阱(7)布置在所述衬底(1)中,并与所述源区(2)间隔开距离,
所述衬底阱(7)与所述漏区(3)邻接,以及
所述源区(2)与所述衬底阱(7)之间的距离大于所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离,
所述ESD保护半导体器件还包括:
所述第一导电类型的另外的衬底阱(13),所述另外的衬底阱(13)布置在所述衬底(1)中并与所述源区(2)间隔开距离,并且所述另外的衬底阱(13)设置在所述衬底阱(7)的下方并与所述衬底阱(7)邻接,
所述源区(2)与所述另外的衬底阱(13)之间的距离大于所述源区(2)与所述衬底阱(7)之间的距离,以及
所述另外的衬底阱(13)的电导率低于所述衬底阱(7)的电导率,并且
所述ESD保护半导体器件还包括:
所述第二导电类型的本体阱(12),
所述沟道区(4)位于所述本体阱(12)中,以及
所述另外的衬底阱(13)从所述衬底(1)的所述表面(10)向下延伸最大距离(d3),所述最大距离(d3)大于所述本体阱(12)从所述表面(10)所延伸的最大距离(d2)。
3.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,所述衬底阱(7)布置在所述衬底表面(10)被所述漏区(3)包围的区域下方。
4.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,与所述漏区(3)相比,所述衬底阱(7)具有较低的掺杂浓度。
5.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,
所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于9V的触发电压以及在7V至11V之间的保持电压。
6.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,
所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于9.5V的触发电压以及在7.5V至12V之间的保持电压。
7.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,
所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于12V的触发电压以及保持在以下电压值之间的范围内的保持电压:所述电压值相差不超过所述范围的中间值的25%。
8.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,
所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于12V的触发电压以及保持在以下电压值之间的范围内的保持电压:所述电压值相差不超过所述范围的中间值的20%。
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