[发明专利]ESD保护半导体器件有效

专利信息
申请号: 201380012586.7 申请日: 2013-02-19
公开(公告)号: CN104160509B 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 沃尔夫冈·赖因普雷希特 申请(专利权)人: ams有限公司
主分类号: H01L29/08 分类号: H01L29/08;H01L29/78
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 康建峰,陈炜
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: esd 保护 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种ESD保护半导体器件,包括:

半导体衬底(1),具有表面(10);

第一导电类型的源区(2)和漏区(3),所述源区(2)和所述漏区(3)布置在所述衬底(1)中,位于或邻近于所述表面(10),并且彼此间隔开距离;

第二导电类型的沟道区(4),所述第二导电类型与所述第一导电类型相反,所述沟道区(4)布置在所述源区(2)和所述漏区(3)之间,以及

栅电极(6),布置在所述沟道区(4)上方,

其特征在于:

所述第一导电类型的衬底阱(7)布置在所述衬底(1)中,并与所述源区(2)间隔开距离,

所述衬底阱(7)与所述漏区(3)邻接,以及

所述源区(2)与所述衬底阱(7)之间的距离大于所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离,

所述ESD保护半导体器件还包括:

所述第二导电类型的本体阱(12),

所述沟道区(4)位于所述本体阱(12)中,以及

所述衬底阱(7)从所述衬底(1)的表面(10)向下延伸最大距离(d1),所述最大距离(d1)大于所述本体阱(12)从所述表面(10)所延伸的最大距离(d2)。

2.一种ESD保护半导体器件,包括:

半导体衬底(1),具有表面(10);

第一导电类型的源区(2)和漏区(3),所述源区(2)和所述漏区(3)布置在所述衬底(1)中,位于或邻近于所述表面(10),并且彼此间隔开距离;

第二导电类型的沟道区(4),所述第二导电类型与所述第一导电类型相反,所述沟道区(4)布置在所述源区(2)和所述漏区(3)之间,以及

栅电极(6),布置在所述沟道区(4)上方,

其特征在于:

所述第一导电类型的衬底阱(7)布置在所述衬底(1)中,并与所述源区(2)间隔开距离,

所述衬底阱(7)与所述漏区(3)邻接,以及

所述源区(2)与所述衬底阱(7)之间的距离大于所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离,

所述ESD保护半导体器件还包括:

所述第一导电类型的另外的衬底阱(13),所述另外的衬底阱(13)布置在所述衬底(1)中并与所述源区(2)间隔开距离,并且所述另外的衬底阱(13)设置在所述衬底阱(7)的下方并与所述衬底阱(7)邻接,

所述源区(2)与所述另外的衬底阱(13)之间的距离大于所述源区(2)与所述衬底阱(7)之间的距离,以及

所述另外的衬底阱(13)的电导率低于所述衬底阱(7)的电导率,并且

所述ESD保护半导体器件还包括:

所述第二导电类型的本体阱(12),

所述沟道区(4)位于所述本体阱(12)中,以及

所述另外的衬底阱(13)从所述衬底(1)的所述表面(10)向下延伸最大距离(d3),所述最大距离(d3)大于所述本体阱(12)从所述表面(10)所延伸的最大距离(d2)。

3.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,所述衬底阱(7)布置在所述衬底表面(10)被所述漏区(3)包围的区域下方。

4.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,与所述漏区(3)相比,所述衬底阱(7)具有较低的掺杂浓度。

5.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,

所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于9V的触发电压以及在7V至11V之间的保持电压。

6.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,

所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于9.5V的触发电压以及在7.5V至12V之间的保持电压。

7.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,

所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于12V的触发电压以及保持在以下电压值之间的范围内的保持电压:所述电压值相差不超过所述范围的中间值的25%。

8.根据权利要求1或2所述的ESD保护半导体器件,其中,

所述源区(2)与所述漏区(3)之间的距离适于高于12V的触发电压以及保持在以下电压值之间的范围内的保持电压:所述电压值相差不超过所述范围的中间值的20%。

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