[发明专利]导电性部件的制造方法、导电性部件、使用了该导电性部件的触控面板

说明书

技术领域

本发明涉及导电性部件的制造方法、导电性部件、使用了该导电性部件的触控面板等。

背景技术

作为装载了触控面板的液晶显示屏或有机EL显示屏等显示装置(例如便携式信息终端和移动电话)以及集成型太阳能电池等中使用的电极用导电材料，广泛利用了ITO，但是由于存在铟金属的储藏量少、起因于长波长区域的透过率低的色调、低电阻化需要高温的热处理、抗弯曲性低等问题，因此正在对ITO的替代材料进行各种研究。

作为替代材料之一，有文献提出使用了导电性的金属纳米线的导电材料(例如专利文献1)，金属纳米线在透明性、低电阻、使用金属量降低的方面优异，因而作为ITO玻璃或ITO膜的替代材料的期望正在提高。

但是，金属纳米线为线结构，因而存在雾度值高、高湿热条件下的耐久性差的问题。

另外，其中特别是在液晶显示屏、有机EL显示屏等或触控面板等显示装置之类的需要图案化电极的装置中，在将透明电极图案化时具有金属纳米线的部分(导电性区域)与不具有金属纳米线的部分(非导电性区域)的雾度值之差大，存在容易看到电极图案的可见性的问题。

因此，例如在专利文献2中提出了下述方法：部分性切断金属纳米线，从而在非导通部残留有金属纳米线或其碎片的金属纳米棒，由此减小导通部与非导通部的雾度之差。另外，例如在专利文献3中提出了下述方法：利用基于能量射线照射或抗蚀剂的图案形成方法，在导电性纳米纤维层形成尺寸为无法目视确认的微小针孔，形成非导通部，由此减小导通部与非导通部的雾度差。

此外，例如在专利文献4中公开了通过等离子体处理或电晕处理将导电性纳米纤维强制氧化而进行绝缘化的方法，为了解决图案可见的问题，正在积极地进行这些被称为不可视(invisible)化或隐形(stealth)化等的技术开发。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利公报US2007/0074316号

专利文献2：美国专利US8018568号

专利文献3：日本特开2010-157400号公报

专利文献4：日本特开2010-287540号公报

发明内容

发明要解决的课题

专利文献3的利用能量射线的方法中，用于图案照射能量射线的设备和能量成本高，难以实用化。此外，专利文献4存在无法适用于下述导电膜的问题，该导电膜为：为了赋予耐氧化性、耐硫化性等环境耐性或耐热性而对导电性纤维适用了防腐蚀剂等的导电膜；或者，以仅仅一部分导电性纤维露出至膜面、而大部分埋入膜中的方式形成的导电膜。本发明人对上述专利文献中记载的技术进行了深入研究，结果可知，与完全除去导电性颗粒的情况相比，这些技术会发生容易因电化学迁移(下文中也简称为迁移)引起绝缘不良的问题。但是，若完全除去导电性颗粒，则残留有雾度的问题。

本发明是鉴于该现有技术问题而完成的，其提供具有高导电性和高透明性、同时图案可见小、且难以因电化学迁移引起绝缘不良的导电性部件、其制造方法、使用了该导电性部件的触控面板和显示装置。

用于解决课题的方案

根据上述课题本发明人进行了深入研究，结果发现，为了减小具有金属纳米线的导电性区域与不具有金属纳米线的非导电性区域的雾度差，只要在非导电性区域形成含有绝缘性的光散射性颗粒的光散射性层即可。另外，未预料到的是，本发明人还发现：通过为该构成，难以引起迁移，从而完成了本发明。

能够解决上述课题的本发明的导电性部件的制造方法的特征在于，该导电性部件的制造方法包括以下工序：在基板上以图案状形成包含金属纳米线的导电层和包含光散射性微粒的光散射性层中的任一种的工序；在以图案状形成的一种层之间形成另一种层的工序。

优选的是，导电层与光散射性层的雾度的比例(光散射性层的雾度/导电层的雾度)为0.7以上1.3以下。

另外优选的是，导电层和光散射性层包含由下述通式(II)表示的化合物水解和缩聚而得到的基体。

M¹(OR¹)_aR²_4-a    (II)

(通式(II)中，M¹表示选自Si、Ti和Zr中的元素，R¹、R²各自独立地表示氢原子或烃基，a表示2～4的整数。)

另外优选的是，金属纳米线的平均短轴长为150nm以下。