[发明专利]用于处理和用于运输高纯度和超高纯度化学品的容器无效

专利信息
申请号: 201380016820.3 申请日: 2013-02-11
公开(公告)号: CN104185602A 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: E.米;H.劳莱德尔;B.诺维茨基;H.克莱因 申请(专利权)人: 赢创德固赛有限公司
主分类号: B67D7/02 分类号: B67D7/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 杨国治;宣力伟
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 处理 运输 纯度 超高 化学品 容器
【权利要求书】:

1.一种空容器(1),用于容纳高纯度和超高纯度的对空气和/或水分敏感的液体或可冷凝的化合物,具有柱形壳体(3)和处于柱形壳体两侧的底部(4a)以及上封闭件(4b、4b')、含有关断/多路和清洗系统(5)和所分配的浸入管(7)的所分配的连接单元(2),其特征在于,

浸入管的下端部(7a)被斜切,并且被斜切的浸入管的顶端(7b)与底部(4a)的最深点接近直到小于2mm,或其与被斜切的浸入管的顶端(7b)接触;

或者

浸入管的下端部(7a)伸入到凹陷(4c)(凹腔)中,所述凹陷(4c)被置入在底部(4a)中并且是底部的最深部位,并且浸入管的下端部(7a)与底部(4a)的最深点接近直到小于2mm;

或者

浸入管的下端部(7a)伸入到凹陷(4c)(凹腔)中,所述凹陷(4c)被置入在底部(4a)中并且是底部的最深部位,并且浸入管的下端部(7a)被斜切,并且被斜切的浸入管的顶端(7b)与底部(4a)中的最深点接近直到小于2mm,或其与被斜切的浸入管的顶端(7b)接触。

2.根据权利要求1所述的空容器,

其特征在于,

浸入管的下端部(7a)相对于关于浸入管的直径(d)的横截面成1至60°、优选地2°至45°、特别优选地3°至30°、非常特别优选地4°至25°、尤其5°至20°的角(α)被斜切,其中浸入管的内径(di)选择性地是1至50mm、优选地是2至40mm、特别优选地是3至30mm、非常特别优选地是4至25mm、尤其是5至15mm。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的空容器,

其特征在于,

连接单元(2)具有带有两个或更多个关断或清洗机构(5或6)的关断/多路和清洗系统(5),其中这些阀优选为膜片阀(6a、6b或6c)和/或活栓(5a、5b或5c)、优选为两路活栓(5b)或三路活栓(5a、5c)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的空容器,

其特征在于,

所述连接单元(2)通过法兰系统(2e、4b')与上封闭件(4b)相连。

5.根据权利要求3或4所述的空容器,

其特征在于,

所述连接单元(2)布置在保护装置(2c、2d)中。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的空容器,

其特征在于,

所述空容器具有支架(8)。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的空容器,

其特征在于,

制造空容器和/或连接单元的材料包括不锈钢。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的空容器,

其特征在于,

不锈钢选取自下述系列:316L、1.4404、1.4432、1.4435、1.4301、1.4401 和1.4571。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的空容器,

其特征在于,

不锈钢是电抛光的并且不锈钢表面具有小于等于1.0 μm的粗糙度(Ra)。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的空容器,

其特征在于,

所述空容器具有0.1 至 1000 l的内部体积、优选地 0.5 至500 l的内部体积、特别优选地1至300 l的内部体积、非常特别优选地5至250 l的内部体积、尤其是10至100 l的内部体积。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的空容器,

其特征在于,

所述空容器是针对至50bar、优选地从0.1mbar至25bar、特别优选地从0.1bar至25bar、非常特别优选地从0.5bar至12bar、尤其从1bar至8bar的内压设计的。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的空容器,

其特征在于,

连接单元(2)通过至少两个连接部(2a、2b)与蒸馏塔、转运站或测量站、和/或反应设备能相接,其中在连接单元和蒸馏塔、转运站或反应设备之间,优选地布置有具有开关功能以及针对最低液位和/或最高液位的警报功能的液位测量装置以及采样单元。

13.一种将根据权利要求1至12中任一项所述的空容器用于存放、处理和/或运输高纯度和超高纯度的对空气和/或水分敏感的液体或可冷凝的化合物的应用,所述化合物尤其是从高纯度和超高纯度硅化合物和/或锗化合物以及有机金属化合物的系列中选取,优选从下述系列中选取:四氯化硅、三氯硅烷、二氯硅烷、一氯硅烷、六氯二硅烷、八氯三硅烷、甲硅烷、乙硅烷、丙硅烷、六甲基二硅氮烷、三甲硅烷基胺、四乙氧基硅烷、硅酸乙酯、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、四氯化锗、单锗烷、硼酸三乙酯、硼酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三乙酯、四甲基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、甲基吡咯烷铝烷、四[二甲基氨基]钛、叔丁基酰氨基[三(二乙基氨基)]钽、叔丁基酰氨基[三(二乙基氨基)]铌、四乙醇钽、四[乙基甲基氨基]铪、三甲基铝、四[乙基甲基氨基]锆、环戊二烯基三[二甲基氨基]锆、五(二甲基氨基)钽、乙基酰氨基[三(二乙基氨基)]钽、四(二乙基氨基)锆、二甲基氨基乙氧基三乙氧基锆。

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