[发明专利]负型感光性硅氧烷组合物

权利要求书

1.一种负型感光性硅氧烷组合物，其特征在于包含：

聚硅氧烷、

在25℃的水中的pKa为2.0～15.7的含硅的化合物、

通过光照射而引发聚合的光酸产生剂或光碱产生剂、以及

溶剂，

其中，该含硅的化合物为(i)通式(A-1)表示的化合物、或者将其作为聚合单元形成在聚合物的末端或侧链而得到的重均分子量1,000以下的聚合物，或(ii)通式(A-2)或通式(A-3)表示的重均分子量4,000以下的化合物，

并且，该组合物不包含成为聚合据点的丙烯酰基基团。

2.根据权利要求1所述的负型感光性硅氧烷组合物，其中，所述含硅的化合物为通式(A-1)表示的化合物，

3.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其中，所述聚硅氧烷的重均分子量为5,000以下。

4.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其中，相对于聚硅氧烷100重量份，包含0.001～10重量份的光酸产生剂或光碱产生剂。

5.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其中，所述含硅的化合物的含量相对于所述聚硅氧烷100重量份为0.5～8.0重量份。

6.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其进一步包含从由密接增强剂、阻聚剂、消泡剂、表面活性剂、光敏剂以及稳定剂组成的组中选出的添加剂。

7.一种固化膜的制造方法，其包含如下工序：

将权利要求1～6中任一项所述的负型感光性硅氧烷组合物涂布于基板而形成涂膜，将涂膜曝光，利用无机显影液而显影，进行加热。

8.一种固化膜，其特征在于由权利要求1～6中任一项所述的负型感光性硅氧烷组合物形成。

9.一种元件，其特征在于具备权利要求8所述的固化膜。