[发明专利]分光传感器有效

专利信息
申请号: 201380023122.6 申请日: 2013-05-08
公开(公告)号: CN104303032B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 柴山胜己;笠原隆 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G02B6/293 分类号: G02B6/293
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 分光 传感器
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种分光传感器。

背景技术

作为现有的分光传感器,已知有具有根据入射位置使规定的波长范围的光选择性地透过的光学滤光部和对透过了光学滤光部的光进行检测的光检测基板的分光传感器。例如,在专利文献1所记载的分光传感器中,在光学滤光部和光检测基板之间、或者相对于光学滤光部的光的入射侧配置FOP(Fiber Optic Plate(光纤板))。另外,在专利文献2所记载的分光传感器中,在光学滤光部和光检测基板之间设置有限制光的入射角的角度限制滤光器。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平6-129908号公报

专利文献2:日本特开2011-203247号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

在专利文献1所记载的分光传感器中,在光学滤光部和光检测基板之间配置有FOP的分光传感器或专利文献2所记载的分光传感器中,能够谋求光学滤光部和光检测基板之间的区域中的光的串扰的抑制。另外,在专利文献1所记载的分光传感器中,在相对于光学滤光部的光的入射侧配置有FOP的分光传感器中,通过限制入射到光学滤光部的光的入射角,从而能够谋求光学滤光部中的光的串扰的抑制。但是,对于这些分光传感器而言,光学滤光部中的光的串扰的抑制不充分,其结果,存在在光检测基板的受光面的规定的位置上所检测的光的波长范围变宽或杂散光成分变多等、滤光特性劣化的问题。

因此,本发明的目的在于提供一种能够谋求滤光特性的提高的分光传感器。

解决问题的技术手段

本发明的分光传感器包括:干涉滤光部,其具有腔层以及隔着腔层相对的第1和第2镜层,根据入射位置选择性地使规定的波长范围的光从第1镜层侧透过至第2镜层侧;光检测基板,其具有透过了干涉滤光部的光进行入射的受光面,对入射到受光面的光进行检测;以及隔板,其从腔层到达第1和第2镜层的至少一方,在从与受光面交叉的规定的方向观察的情况下,将干涉滤光部光学性地分离。

在该分光传感器中,在从与受光面交叉的规定的方向观察的情况下,干涉滤光部被隔板光学性地分离,该隔板从腔层到达第1和第2镜层的至少一方。由此,例如,即使不与隔板分开地采用用于限制入射到干涉滤光部的光的入射角的结构,在腔层中,也抑制了光向与受光面平行的方向的传播,所以能够充分地谋求干涉滤光部中的光的串扰的抑制。而且,通过隔板限制了入射到光检测基板的受光面的光的入射角,所以,能够使光精度良好地入射到与干涉滤光部的入射位置对应的受光面的规定的位置。因此,根据该分光传感器,能够谋求滤光特性的提高。

在此,隔板也可以从腔层至少到达第2镜层。根据该结构,能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生,能够谋求滤光特性的进一步的提高。

再有,隔板也可以从腔层到达第1和第2镜层的双方。根据该结构,能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生,除此之外,由于腔层通过隔板而被可靠地分离,所以,能够更加充分地谋求干渉滤光部中的光的串扰的抑制。

另外,分光传感器也可以还具备:第1耦合层,其配置在干涉滤光部和光检测基板之间,使从干涉滤光部行进至光检测基板的光透过,隔板经由第2镜层而到达第1耦合层。根据该结构,能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生,除此之外,入射到光检测基板的受光面的光的入射角通过隔板而被更进一步限制,所以,能够使光更加精度良好地入射到与干涉滤光部的入射位置对应的受光面的规定的位置。

另外,分光传感器也可以还包括使入射到干涉滤光部的光透过的光透过基板、以及配置在光透过基板和干涉滤光部之间并使从光透过基板行进至干涉滤光部的光透过的第2耦合层,隔板经由第1镜层而到达第2耦合层。根据该结构,通过隔板限制入射到干涉滤光部的光的入射角,所以能够更加充分地谋求干涉滤光部中的光的串扰的抑制。

此时,腔层和第2耦合层也可以由相同材料构成。根据该结构,能够容易地实现腔层和第2耦合层的层叠工序。另外,在例如通过干式蚀刻设置隔板的情况下,能够使蚀刻气体等的条件相同,因此,能够实现形状精度高的隔板。另外,折射率相同,所以也能够获得稳定的滤光特性。再有,能够谋求用于限制光的入射角的隔板的准直特性的均匀化。此外,所谓相同,是指不仅包括完全相同的情况而且包括在制造误差等的范围内大致相同的情况。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浜松光子学株式会社,未经浜松光子学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380023122.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top