[发明专利]喷嘴单元以及具有该喷嘴单元的基板处理设备

权利要求书

1.一种喷嘴单元，其特征在于，

包括：

第一管：具有多个喷射口；

热反射构件，屏蔽并反射向所述第一管的内部传递的热能。

2.根据权利要求1所述的喷嘴单元，其特征在于，

所述热反射构件为配置在所述第一管的内侧面和外侧面中的至少一面上的硅类镀膜。

3.根据权利要求1所述的喷嘴单元，其特征在于，

所述热反射构件包括盖板，该盖板由硅类材料形成，并包围所述第一管的一部分。

4.根据权利要求1或2所述的喷嘴单元，其特征在于，

所述喷嘴单元还包括：

第二管，包围所述第一管，并且在与所述多个喷射口中的每一个喷射口相同的线上分别形成有多个贯通口；

连接管，用于连接所述第一管的喷射口和所述第二管的贯通口，并喷射供给至所述第一管的气体。

5.根据权利要求4所述的喷嘴单元，其特征在于，

在所述第二管的内侧面和外侧面中的至少一面上镀敷有所述热反射膜。

6.一种基板处理设备，其特征在于，

包括：

工艺管，容置用于收纳多个基板的装载器，

加热器组件，包围所述工艺管，

喷嘴单元，向所述工艺管的内部供给用于在所述基板的表面上形成薄膜的工艺气体；

所述喷嘴单元包括用于屏蔽并反射来自所述加热器组件的热能的热反射构件。

7.根据权利要求6所述的基板处理设备，其特征在于，

所述热反射构件包括配置在内侧面和外侧面中的至少一面上的热反射膜。

8.根据权利要求6所述的基板处理设备，其特征在于，

所述喷嘴单元包括：

第一管，具有多个喷射口，并且形成有用于供给工艺气体的第一通道；

盖板，由硅类材料形成，并包围所述第一管的一部分。

9.根据权利要求6所述的基板处理设备，其特征在于，

所述喷嘴单元包括：

第一管，具有多个喷射口，并且形成有用于供给工艺气体的第一通道；

第二管，在与所述多个喷射口中的每一个喷射口相同的线上分别形成有多个贯通口，并且包围所述第一管，以防止所述工艺气体的温度上升，在该第二管中流动有冷却气体；

连接管，用于连接所述第一管的喷射口和所述第二管的贯通口，并喷射供给至所述第一管的工艺气体。

10.根据权利要求9所述的基板处理设备，其特征在于，

在所述第一管以及所述第二管各自的内侧面和外侧面中的至少一面上镀敷有所述热反射膜。

11.根据权利要求7所述的基板处理设备，其特征在于，

所述热反射膜为硅类镀膜。