[发明专利]间壁糊料、具有间壁的构件的制造方法和具有间壁的构件在审
| 申请号： | 201380027295.5 | 申请日： | 2013-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN104302588A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 小林康宏;谷野贵广 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | C03C8/16 | 分类号： | C03C8/16;C03C17/04;H01J9/02;H01J11/36;H01J29/86 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 庞立志;杨思捷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 间壁 糊料 具有 构件 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.间壁糊料，其含有低软化点玻璃粉末与有机成分，所述低软化点玻璃粉末含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24～37摩尔%的氧化硼，并且碱土类金属氧化物的含有率为4摩尔%以下和氧化锌的含有率为10摩尔%以下。
2.权利要求1所述的间壁糊料，其中，所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼的含有率为24～34摩尔%，所述低软化点玻璃粉末中的氧化钠的含有率为3.5摩尔%以下。
3.权利要求1或2所述的间壁糊料，其含有感光性有机成分作为所述有机成分。
4.具有间壁的构件的制造方法，其中，在基板上涂布权利要求1～3中任一项所述的间壁糊料，进行烧成而形成间壁。
5.具有间壁的构件的制造方法，其中，在基板上涂布权利要求3所述的间壁糊料，进行曝光、显影、烧成而形成间壁。
6.具有间壁的构件，其以低软化点玻璃为主成分，
所述低软化点玻璃含有氧化硅、氧化铝、碱金属氧化物和24～37摩尔%的氧化硼，并且碱土类金属氧化物的含有率为4摩尔%以下和氧化锌的含有率为10摩尔%以下。
7.等离子体显示器，其具备权利要求6所述的构件。
8.放射线成像装置，其具备权利要求6所述的构件。
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